特許

J-GLOBAL ID：200903065642370375

基板処理装置及びその処理方法

発明者： 松澤 実 ,  長阪 道雄
出願人/特許権者： サイペック株式会社
代理人 (1件)： 國分 孝悦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-181151
公開番号（公開出願番号）：特開2004-031400
出願日： 2002年06月21日
公開日（公表日）： 2004年01月29日
要約：

【課題】基板を処理した処理液を回収するときに、他の回収槽にその回収しようとする処理液が混入しないようにする。【解決手段】基板チャック部13で保持された被処理基板11を回転させて、処理基板11上に複数の処理液を供給し、回転手段15により被処理基板11から飛散した処理液の種類毎に回収するように設けられた複数の回収槽16〜19を有しており、処理液をある回収槽で回収するときは昇降機構28を駆動させてその回収槽のみの入り口を開いた状態で回収するようにして、他の回収槽にその処理しようとする処理液が混入しないようにする。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

被処理基板を保持する基板保持手段と、 前記基板保持手段で保持された被処理基板を回転させる基板回転手段と、 前記被処理基板上に複数の処理液を供給する処理液供給手段と、 前記基板保持手段で保持された被処理基板の周囲を取り囲むように配置され、前記基板回転手段により前記被処理基板から飛散した前記処理液をその種類毎に分離回収するように設けられた複数の回収槽を有する処理液回収手段とを備え、 前記処理液回収手段は、前記処理液をある回収槽で回収するときに他の回収槽の入り口を閉じた状態で回収することを特徴とする基板処理装置。

IPC (1件)：

H01L21/304

FI (2件)：

H01L21/304 648K ,  H01L21/304 643Z

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 基板処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-362252   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
• 基板処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-343780   出願人：東京エレクトロン株式会社