特許

J-GLOBAL ID：200903065664959372

化学反応促進用マイクロ波供給装置を設けた高温高圧容器

発明者： 加藤 俊作 ,  李 眞昊 ,  堀川 栄 ,  曽我 博文
出願人/特許権者： 四国計測工業株式会社 ,  財団法人かがわ産業支援財団
代理人 (1件)： 須藤 阿佐子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-311198
公開番号（公開出願番号）：特開2002-113350
出願日： 2000年10月11日
公開日（公表日）： 2002年04月16日
要約：

【要約】【課題】 窓の制限を緩和したマイクロ波供給装置を設けた高温高圧容器の提供。【解決手段】 開口部に仕切窓としての第1の窓を設置した中空の導波管または同軸線路よりなる化学反応促進用マイクロ波供給装置を設けた高温高圧容器であって、該容器が耐圧容器および反応容器で構成され、耐圧容器の内側に耐熱および/または耐食性の密閉式反応容器を備え、耐圧容器と反応容器の内圧を制御できるようにしたこと、好ましくは内圧を等しくしたものであることを特徴とする高温高圧容器。容器中の被加熱物は、マイクロ波吸収体および/またはマイクロ波吸収性触媒を存在させた高温高圧反応系、亜・超臨界状態にある高温高圧流体系、および/または、電解反応系・光化学反応系・超音波を用いた反応系・外部加熱法を用いた反応系である。

請求項（抜粋）：

開口部に仕切窓としての第1の窓を設置した中空の導波管または同軸線路よりなる化学反応促進用マイクロ波供給装置を設けた高温高圧容器であって、該容器が耐圧容器および反応容器で構成され、耐圧容器の内側に耐熱および/または耐食性の密閉式反応容器を備え、耐圧容器と反応容器の内圧を制御できるようにしたことを特徴とする高温高圧容器。

IPC (5件)：

B01J 3/04 ,  B01J 3/00 ,  B01J 19/12 ,  H05B 6/64 ,  H05B 6/80

FI (5件)：

B01J 3/04 D ,  B01J 3/00 A ,  B01J 19/12 A ,  H05B 6/64 D ,  H05B 6/80 Z

Fターム (15件)：

3K090AA20 ,  3K090FA03 ,  3K090LA00 ,  4G075AA13 ,  4G075AA62 ,  4G075AA63 ,  4G075BA04 ,  4G075BD13 ,  4G075BD17 ,  4G075CA02 ,  4G075CA05 ,  4G075CA26 ,  4G075CA54 ,  4G075CA65 ,  4G075EC14

引用特許：

審査官引用 (4件)

• マイクロ波加熱装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-029655   出願人：株式会社日立製作所, 日立エレクトロニックデバイシズ株式会社, 日立エンジニアリング株式会社
• 大量の製品について化学反応を実行するためにマイクロ波を用いる装置
  公報種別：公表公報   出願番号：特願平10-506653   出願人：ソシエテプロラボ
• マイクロ波アシスト化学のための可撓性容器及びフレーム
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2000-544427   出願人：シーイーエム・コーポレーション
• マイクロ波支援化学における高圧容器用の密封閉塞体
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2000-621060   出願人：シーイーエム・コーポレーション