半導体ウエハ保管システムおよびそのシステムを使用した半導体装置の製造方式

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：宮田金雄 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-314068
公開番号（公開出願番号）：特開平9-153533
出願日： 1995年12月01日
公開日（公表日）： 1997年06月10日
要約：

【要約】【課題】クリーンルーム内に保管中の半導体ウエハがクリーンルームエア中に含まれる有機物や水分によって汚染されることを防止する。【解決手段】ウエハ保管装置本体と、これに別置きされたケミカルフィルタを備えた気体供給装置とで構成される。

請求項（抜粋）：

クリーンルーム内に設置された半導体ウエハ保管装置と、別置きされケミカルフィルタが設けられた気体供給装置とから構成されることを特徴とする半導体ウエハ保管システム。

IPC (3件)：

H01L 21/68 , F24F 7/06 , H01L 21/02

FI (3件)：

H01L 21/68 A , F24F 7/06 C , H01L 21/02 D

引用特許：

審査官引用 (9件)

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