特許
J-GLOBAL ID：200903065780779306

液浸露光用レジスト組成物およびレジストパターン形成方法

発明者：
入江 真樹子

入江 真樹子 について

, 
岩井 武

岩井 武 について


出願人/特許権者：
東京応化工業株式会社

東京応化工業株式会社 について


代理人 (5件)： 棚井 澄雄 ,  志賀 正武 ,  青山 正和 ,  鈴木 三義 ,  柳井 則子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-122330
公開番号（公開出願番号）：特開2007-249152
出願日： 2006年04月26日
公開日（公表日）： 2007年09月27日
要約：
【課題】液浸露光用として好適で、かつリソグラフィー特性も良好な液浸露光用レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。【解決手段】酸の作用によりアルカリ溶解性が変化する樹脂成分(A)および露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)を含む液浸露光用レジスト組成物であって、前記樹脂成分(A)が、フッ素原子を含有し、かつ酸解離性基を有さない樹脂(A1)と、アクリル酸から誘導される構成単位(a’)を有し、かつフッ素原子を含有しない樹脂(A2)とを含有することを特徴とする液浸露光用レジスト組成物。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
酸の作用によりアルカリ溶解性が変化する樹脂成分(A)および露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)を含む液浸露光用レジスト組成物であって、 前記樹脂成分(A)が、フッ素原子を含有し、かつ酸解離性基を有さない樹脂(A1)と、アクリル酸から誘導される構成単位(a’)を有し、かつフッ素原子を含有しない樹脂(A2)とを含有することを特徴とする液浸露光用レジスト組成物。
IPC (3件)：
G03F 7/039 ,  H01L 21/027 ,  C08F 20/24
FI (3件)：
G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R ,  C08F20/24
Fターム (21件)：
2H025AA00 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BG00 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025CB45 ,  2H025CC20 ,  2H025FA03 ,  2H025FA17 ,  4J100AL08P ,  4J100BA03P ,  4J100BB18P ,  4J100BC04P ,  4J100BC08P ,  4J100CA01 ,  4J100CA03 ,  4J100JA38
引用特許：
出願人引用 (1件) 審査官引用 (2件)
  • ポジ型感光性組成物
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-065444   出願人：富士写真フイルム株式会社
  • パターン形成方法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2006-157227   出願人：富士フイルム株式会社

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