基板の洗浄装置および洗浄方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：高田守 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-016964
公開番号（公開出願番号）：特開2002-222787
出願日： 2001年01月25日
公開日（公表日）： 2002年08月09日
要約：

【要約】【課題】基板に付着したレジスト変質層の除去を促進させる洗浄装置および洗浄方法を得る。【解決手段】洗浄用薬液を満たす処理槽1に、超音波発振器3と、洗浄用薬液2中に浸漬される被洗浄基板4を保持する保持具5とを備え、被洗浄基板の裏面に超音波発振器からの超音波を照射し被洗浄基板の表面を洗浄する。

請求項（抜粋）：

洗浄用薬液を満たす処理槽と、この処理槽の中に配置され前記洗浄用薬液中に浸漬される超音波発振器と、前記洗浄用薬液中に浸漬される被洗浄基板を保持しこの被洗浄基板の裏面に前記超音波発振器からの超音波が照射されるようにした保持具とを備えたことを特徴とする基板の洗浄装置。

IPC (3件)：

H01L 21/304 642 , H01L 21/304 , B08B 3/12

FI (3件)：

H01L 21/304 642 E , H01L 21/304 642 F , B08B 3/12 A

Fターム (7件)：

3B201AA03 , 3B201AB53 , 3B201BA12 , 3B201BB02 , 3B201BB23 , 3B201BB83 , 3B201BB94

引用特許：

審査官引用 (4件)

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