特許

J-GLOBAL ID：200903074262911500

洗浄方法及び洗浄システム

発明者： 大見 忠弘 ,  自在丸 隆行 ,  新田 雄久
出願人/特許権者： 大見 忠弘 ,  株式会社ウルトラクリーンテクノロジー開発研究所
代理人 (1件)： 福森 久夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-270353
公開番号（公開出願番号）：特開平10-116809
出願日： 1996年10月11日
公開日（公表日）： 1998年05月06日
要約：

【要約】【課題】 フォトレジスト等の有機膜を室温で剥離除去することができ、単純な構造の有機物を、他の物質と混合なしに希釈だけで使用するため洗浄液が長時間にわたって劣化せず、しかも洗浄効果が高く、極めて優れた特徴を有する洗浄方法及び洗浄システムを提供することを目的とする。【解決手段】 水溶性有機溶媒又はその希釈液からなる槽内中の洗浄水に超音波を照射しながら基体を浸漬することにより基体に付着する有機被膜を除去することを特徴とする。あるいは基体に超音波の照射された上記洗浄液を噴射する。水溶性有機溶媒はアセトン、IPA、エタノール等である。イオン注入装置等に隣接して、上記洗浄を行う洗浄装置を設けたことを特徴とする。

請求項（抜粋）：

水溶性有機溶媒又はその希釈液からなる槽内中の洗浄水に超音波を照射しながら基体を浸漬することにより基体に付着する有機被膜を除去することを特徴とする洗浄方法。

IPC (6件)：

H01L 21/304 341 ,  H01L 21/304 ,  B08B 3/12 ,  C11D 7/26 ,  C11D 7/50 ,  H01L 21/027

FI (7件)：

H01L 21/304 341 T ,  H01L 21/304 341 M ,  H01L 21/304 341 N ,  B08B 3/12 A ,  C11D 7/26 ,  C11D 7/50 ,  H01L 21/30 572 B

引用特許：

審査官引用 (3件)

• リフトオフ装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-022456   出願人：株式会社村田製作所
• 特開平4-146616
  
• 半導体装置及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-332216   出願人：富士通株式会社