特許
J-GLOBAL ID:200903065876043963
結晶作製装置
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
福森 久夫
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-327467
公開番号(公開出願番号):特開2000-137101
出願日: 1998年11月02日
公開日(公表日): 2000年05月16日
要約:
【要約】【課題】 るつぼに入れた原料の固液界面の位置と、固液界面に対して垂直方向の温度勾配とを一定に保つことの可能な結晶作製装置を提供する。【解決手段】 本発明の結晶作製装置は、原料を入れたるつぼと、該るつぼを取り囲む様に配置されたヒーターとを備え、該るつぼを該ヒーターに対して引き下げることによって、該原料を該るつぼの下方から冷却して結晶を作製する装置において、前記るつぼの移動に伴い、該るつぼに入れた原料の固液界面付近を、前記ヒーター側から見た立体角が変わらないことを特徴とする。
請求項(抜粋):
原料を入れたるつぼと、該るつぼを取り囲む様に配置されたヒーターとを備え、該るつぼを該ヒーターに対して引き下げることによって、該原料を該るつぼの下方から冷却して結晶を作製する装置において、前記るつぼの移動に伴い、該るつぼに入れた原料の固液界面付近を、前記ヒーター側から見た立体角が変わらないことを特徴とする結晶作製装置。
引用特許:
審査官引用 (3件)
-
特開平4-349198
-
結晶製造装置及び方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-240444
出願人:キヤノン株式会社
-
半導体単結晶の製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-330104
出願人:住友電気工業株式会社
前のページに戻る