特許
J-GLOBAL ID：200903065893137920

感光性重合体組成物、レリーフパターンの製造方法及び電子部品

発明者：
布村 昌隆

布村 昌隆 について

, 
大江 匡之

大江 匡之 について

, 
上野 巧

上野 巧 について


出願人/特許権者：
日立化成デュポンマイクロシステムズ株式会社

日立化成デュポンマイクロシステムズ株式会社 について


代理人 (1件)： 酒井 宏明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-069898
公開番号（公開出願番号）：特開2004-279654
出願日： 2003年03月14日
公開日（公表日）： 2004年10月07日
要約：
【課題】厚膜でも感度が良く、ポリイミドへの熱処理温度を下げても膜の伸びがよいポジ型の耐熱性感光性重合体組成物、前記組成物を用いたレリーフパターンの製造方法、及び電子部品の製造方法を提供する。【解決手段】(a)アミノ基末端を実質含まず、また反応性末端保護基を含まず、保護された酸性基を含み、下記一般式(I)(式中、R1は4価の脂肪族基を示し、R2は2価の有機基を示し、2つのR3は各々独立に水素原子または1価の有機基を示す。)で表される繰り返し構造を含むポリイミド前駆体、及び(b)光照射により酸を発生し、保護された酸性基から保護基を脱離させうる化合物を含有してなる感光性重合体組成物。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
(a)アミノ基末端を実質含まず、また反応性末端保護基を含まず、保護された酸性基を含み、下記一般式(I)
IPC (6件)：
G03F7/039 ,  C08G73/10 ,  G03F7/037 ,  G03F7/40 ,  H01L21/027 ,  H01L21/312
FI (6件)：
G03F7/039 601 ,  C08G73/10 ,  G03F7/037 501 ,  G03F7/40 501 ,  H01L21/312 B ,  H01L21/30 502R
Fターム (56件)：
2H025AA01 ,  2H025AA10 ,  2H025AB16 ,  2H025AC01 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BG00 ,  2H025FA03 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17 ,  2H025FA29 ,  2H096AA25 ,  2H096BA11 ,  2H096BA20 ,  2H096EA02 ,  2H096FA01 ,  2H096GA08 ,  2H096HA01 ,  2H096HA17 ,  2H096HA27 ,  2H096JA03 ,  2H096JA04 ,  4J043PA02 ,  4J043PA19 ,  4J043PB21 ,  4J043QB26 ,  4J043QB31 ,  4J043RA35 ,  4J043SA06 ,  4J043SA54 ,  4J043SB01 ,  4J043TA22 ,  4J043TA42 ,  4J043TA71 ,  4J043TA75 ,  4J043TB01 ,  4J043UA042 ,  4J043UA131 ,  4J043UB121 ,  4J043VA021 ,  4J043VA022 ,  4J043VA062 ,  4J043YA06 ,  4J043ZA46 ,  4J043ZB50 ,  5F058AA10 ,  5F058AC02 ,  5F058AC07 ,  5F058AD04 ,  5F058AD08 ,  5F058AF04 ,  5F058AG01 ,  5F058AG03 ,  5F058AG09 ,  5F058AH02 ,  5F058AH03
引用特許：
審査官引用 (3件)

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