特許
J-GLOBAL ID：200903065904476773

光学材料の製造方法

発明者：
堀越 裕

堀越 裕 について

, 
岡田 浩之

岡田 浩之 について

, 
竹内 基晴

竹内 基晴 について


出願人/特許権者：
三菱瓦斯化学株式会社

三菱瓦斯化学株式会社 について


代理人 (1件)： 永井 隆
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-136528
公開番号（公開出願番号）：特開2004-339329
出願日： 2003年05月14日
公開日（公表日）： 2004年12月02日
要約：
【課題】高屈折率を有しかつ実用可能な光学材料を提供することである。【解決手段】下記(a)化合物と(b)化合物の予備重合物と、下記(c)化合物と(d)化合物の予備重合物を反応させる。(a)下記(1)式で表される構造を1分子中に1個以上有する化合物。【化1】(式中、R1は炭素数0〜10の炭化水素、R2,R3 およびR4はそれぞれ炭素数1〜10の炭化水素基または水素を示す。YはO、S、SeまたはTeを表す。m=1〜5、n=0〜5である。)(b)硫黄原子および/またはセレン原子を有する無機化合物。(c)イソシアネート基および/またはイソチオシアネート基を1分子あたり1個以上有する化合物。(d)メルカプト基を1分子あたり1個以上有する化合物。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
下記(a)化合物と(b)化合物の予備重合物と、下記(c)化合物と(d)化合物の予備重合物を反応させることを特徴とする光学材料の製造方法。 (a)下記(1)式で表される構造を1分子中に1個以上有する化合物。
IPC (3件)：
C08G81/00 ,  G02B1/04 ,  G02B3/00
FI (3件)：
C08G81/00 ,  G02B1/04 ,  G02B3/00 Z
Fターム (14件)：
4J031AA56 ,  4J031AA58 ,  4J031AB04 ,  4J031AC11 ,  4J031AD01 ,  4J031AE11 ,  4J031AF21 ,  4J031BA01 ,  4J031BA11 ,  4J031BA15 ,  4J031BB02 ,  4J031BB04 ,  4J031BD21 ,  4J031CA21
引用特許：
審査官引用 (6件)
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