偏光制御素子および光学素子

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：酒井宏明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-150074
公開番号（公開出願番号）：特開2006-330107
出願日： 2005年05月23日
公開日（公表日）： 2006年12月07日
要約：

【課題】位相差を発生させる波長板を実現すると共に、耐熱性に優れた偏光制御素子を提供すること。【解決手段】ガラス基板などの透明な誘電体基板1上に、二種類以上の金属または合金からなる金属粒子(第1の金属粒子2、第2の金属粒子3)のパターンを連続的に形成することで、透過光または反射光の偏光成分に位相差を発生させる波長板を実現すると共に、耐熱性に優れかつ偏光状態の設計自由度の高い偏光制御素子10を提供する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

誘電体基板上に、二種類以上の金属または合金からなる金属粒子のパターンを連続的に形成したことを特徴とする偏光制御素子。

IPC (2件)：

G02B 5/30 , G02F 1/133

FI (3件)：

G02B5/30 , G02F1/1335 510 , G02F1/13363

Fターム (12件)：

2H049BA02 , 2H049BA45 , 2H049BA46 , 2H049BC01 , 2H049BC23 , 2H049BC25 , 2H091FA08X , 2H091FA08Z , 2H091FA11X , 2H091FA11Z , 2H091FB07 , 2H091FB08

引用特許：

出願人引用 (5件)

偏光素子及びその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-106552 出願人：京セラ株式会社
位相差フィルムおよびこれを用いた楕円偏光フィルム
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-314573 出願人：日本化薬株式会社
偏光子及びその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-329199 出願人：株式会社リコー

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審査官引用 (4件)

偏光素子及びその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-106552 出願人：京セラ株式会社
特開平4-218662
特開平4-218662

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