特許

J-GLOBAL ID：200903065918528148

ネガ型レジスト組成物およびレジストパターンの形成方法

発明者： 野崎 耕司 ,  矢野 映
出願人/特許権者： 富士通株式会社
代理人 (1件)： 石田 敬 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-106629
公開番号（公開出願番号）：特開平11-305436
出願日： 1998年04月16日
公開日（公表日）： 1999年11月05日
要約：

【要約】【課題】 現像液として塩基性水溶液を使用でき、実用可能な感度を有し、膨潤のない微細パターンを形成することができるネガ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。【解決手段】 アルカリ可溶性基を有し、皮膜形成性の、塩基性水溶液に可溶性の重合体と、ビニルエーテル構造を有する化合物と、前記ビニルエーテル構造を有する化合物が結像用放射線を吸収して分解され、前記アルカリ可溶性基の保護基となるように作用する光酸発生剤とを含み、塩基性水溶液に可溶であり、露光後は露光部がアルカリに不溶となる、塩基性水溶液で現像可能なネガ型レジスト組成物およびこれを用いたレジストパターン形成方法。

請求項（抜粋）：

アルカリ可溶性基を有し、皮膜形成性の、塩基性水溶液に可溶性の重合体と、ビニルエーテル構造を有する化合物と、前記ビニルエーテル構造を有する化合物が結像用放射線を吸収して分解され、前記アルカリ可溶性基の保護基となるように作用する光酸発生剤とを含み、塩基性水溶液に可溶であり、露光後は露光部がアルカリに不溶となることを特徴とする、塩基性水溶液で現像可能なネガ型レジスト組成物。

IPC (4件)：

G03F 7/039 601 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/30 ,  H01L 21/027

FI (4件)：

G03F 7/039 601 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/30 ,  H01L 21/30 502 R

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開平4-330445
  
• 放射線感応性樹脂組成物およびこれを用いたパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-074959   出願人：沖電気工業株式会社
• ネガ型フォトレジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-022168   出願人：富士写真フイルム株式会社