特許
J-GLOBAL ID：200903098842869469

ネガ型フォトレジスト組成物

発明者：
佐藤 健一郎

佐藤 健一郎 について


出願人/特許権者：
富士写真フイルム株式会社

富士写真フイルム株式会社 について


代理人 (1件)： 萩野 平 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-022168
公開番号（公開出願番号）：特開平11-218918
出願日： 1998年02月03日
公開日（公表日）： 1999年08月10日
要約：
【要約】【課題】 ArFエキシマレーザー光源に対して好適で、基板密着性に優れるとともに、さらにレジストプロファイルが良好であるネガ型フォトレジスト組成物を提供すること。【解決手段】 特定の構造の繰り返し単位および架橋性基を含む重合体を含有するアルカリ可溶性樹脂、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物および酸存在下アルカリ可溶性樹脂の現像液溶解性を低下させる化合物を含有するネガ型フォトレジスト組成物。
請求項（抜粋）：
アルカリ可溶性樹脂、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物および酸存在下アルカリ可溶性樹脂の現像液溶解性を低下させる化合物を含有するネガ型フォトレジスト組成物において、前記アルカリ可溶性樹脂が、下記一般式〔I〕又は〔II〕で表される繰り返し単位および架橋性基を含む重合体を含有することを特徴とするネガ型フォトレジスト組成物。【化1】式中、R1〜R4、R9〜R12;各々独立に、水素原子、置換基を有していても良いアルキル基、ハロゲン原子、水酸基、置換基を有していても良いアルコキシ基、-COOH、-COOR41、-CN、-CO-X-A-R50、R5〜R8、R13〜R20;各々独立に、水素原子、置換基を有していても良いアルキル基、置換基を有していても良いアルコキシ基、R41;置換基を有していても良いアルキル基、又は-Y(Yは下記に示す基である)【化2】R42〜R49;各々独立に、水素原子、置換基を有していても良いアルキル基、X;酸素原子、硫黄原子、-NH-、-NHS02 -、-NHS02 NH-から選ばれる2価の結合基、A;単結合、アルキレン基、置換アルキレン基、エーテル基、チオエーテル基、カルボニル基、エステル基、アミド基、スルフォンアミド基、ウレタン基、又はウレア基よりなる群から選択される単独あるいは2つ以上の基の組み合わせ、R50;水素原子、アルキル基、環状アルキル基、-COOH、-CN、水酸基、置換基を有していても良いアルコキシ基、-CO-NH-R30、-CO-NH-S02 -R30、-COOR35又は上記-Y、R30;置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアルコキシ基、R35;置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアルコキシ基、又は上記-Y、x、y、z;1又は2、を表す。
IPC (3件)：
G03F 7/038 505 ,  G03F 7/038 601 ,  H01L 21/027
FI (3件)：
G03F 7/038 505 ,  G03F 7/038 601 ,  H01L 21/30 502 R
引用特許：
審査官引用 (2件)

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