放射線感応性樹脂組成物およびこれを用いたパターン形成方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：船橋國則
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-074959
公開番号（公開出願番号）：特開平8-272099
出願日： 1995年03月31日
公開日（公表日）： 1996年10月18日
要約：

【要約】【目的】放射線に対して高感度な放射線感応性樹脂組成物を提供することおよび高解像性のパターンを形成すること。【構成】放射線感応性樹脂組成物は、第1のアルカリ可溶性樹脂と、アルケニルエーテル基を有する第2のアルカリ可溶性樹脂と、放射線の照射により酸を発生する酸発生剤とを含んで構成される。この放射線感応性樹脂組成物を用いてパターン形成する場合には、放射線感応性樹脂組成物を基体上に塗布して塗膜を形成し、次いでこの塗膜に、選択的に放射線を照射した後、塗膜を加熱処理する。そして塗膜を現像してパターンを形成する。

請求項（抜粋）：

第1のアルカリ可溶性樹脂と、アルケニルエーテル基を有する第2のアルカリ可溶性樹脂と、放射線の照射により酸を発生する酸発生剤とを含有することを特徴とする放射線感応性樹脂組成物。

IPC (4件)：

G03F 7/038 505 , G03F 7/004 503 , G03F 7/38 511 , H05K 3/06

FI (4件)：

G03F 7/038 505 , G03F 7/004 503 , G03F 7/38 511 , H05K 3/06 H

引用特許：

審査官引用 (9件)

改良された加工特性を有するポジ型フォトレジスト
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-339657 出願人：チバ-ガイギーアクチエンゲゼルシャフト, オーシージーミクロエレクトロニクスインコーポレーテッド
特開平3-130774
特開平3-130773

全件表示

前のページに戻る