特許
J-GLOBAL ID:200903065943159300
ディスプレイの製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (2件):
角田 芳末
, 磯山 弘信
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-372870
公開番号(公開出願番号):特開2004-205690
出願日: 2002年12月24日
公開日(公表日): 2004年07月22日
要約:
【課題】ウェットエッチングプロセスを、レーザを用いたドライエッチングプロセスにすることにより、フォトリソグラフィー工程を削減でき、高生産性を実現するディスプレイの製造方法を提案することを目的とする。【解決手段】薄膜トランジスタが構成された薄膜トランジスタ基板を駆動基板とするディスプレイの製造方法において、薄膜トランジスタ基板上の配線または画素電極をパターニングするのに、所定パターンに成形されたレーザ光を配線または画素電極に照射してダイレクトにパターン形成するものであり、熱膨張性のマイクロカプセルをレーザ加工用の剥離層としてこの配線または画素電極のパターン形成に利用するようにする。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
薄膜トランジスタが構成された薄膜トランジスタ基板を駆動基板とするディスプレイの製造方法において、
前記薄膜トランジスタ基板上の配線または画素電極をパターニングするのに、所定パターンに成形されたレーザ光を配線または画素電極に照射してダイレクトにパターン形成することを特徴とするディスプレイの製造方法。
IPC (9件):
G09F9/30
, G02F1/1368
, G09F9/00
, H01L21/302
, H01L21/3205
, H01L21/336
, H01L29/786
, H05B33/10
, H05B33/14
FI (10件):
G09F9/30 338
, G09F9/30 365Z
, G02F1/1368
, G09F9/00 338
, H01L21/302 201B
, H05B33/10
, H05B33/14 A
, H01L29/78 612C
, H01L29/78 612D
, H01L21/88 B
Fターム (85件):
2H092JA24
, 2H092JB21
, 2H092MA12
, 2H092MA30
, 2H092NA27
, 3K007AB18
, 3K007DB03
, 3K007FA01
, 5C094AA08
, 5C094AA43
, 5C094BA03
, 5C094BA12
, 5C094BA27
, 5C094BA43
, 5C094CA19
, 5C094CA24
, 5C094EA04
, 5C094EA05
, 5C094EA06
, 5C094EB02
, 5C094ED11
, 5C094ED13
, 5C094ED15
, 5C094FA01
, 5C094FA02
, 5C094FB01
, 5C094FB12
, 5C094FB15
, 5C094FB20
, 5C094GB10
, 5F004BB03
, 5F004DB08
, 5F004DB23
, 5F004EA01
, 5F004EB02
, 5F033HH38
, 5F033VV15
, 5F110AA16
, 5F110BB01
, 5F110CC08
, 5F110DD02
, 5F110EE04
, 5F110EE44
, 5F110FF02
, 5F110FF03
, 5F110FF09
, 5F110FF30
, 5F110GG02
, 5F110GG13
, 5F110GG45
, 5F110HJ01
, 5F110HJ13
, 5F110HJ23
, 5F110HL03
, 5F110HL07
, 5F110HL11
, 5F110HM15
, 5F110HM18
, 5F110NN03
, 5F110NN05
, 5F110NN22
, 5F110NN23
, 5F110NN24
, 5F110NN33
, 5F110NN35
, 5F110NN71
, 5F110NN72
, 5F110PP03
, 5F110PP35
, 5F110QQ04
, 5F110QQ11
, 5F110QQ14
, 5G435AA04
, 5G435AA17
, 5G435BB05
, 5G435BB12
, 5G435BB15
, 5G435BB16
, 5G435CC09
, 5G435CC12
, 5G435FF03
, 5G435FF06
, 5G435HH18
, 5G435KK05
, 5G435KK10
引用特許:
出願人引用 (5件)
-
有機EL素子の製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2000-201126
出願人:シャープ株式会社
-
配線接続方法およびその装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-082280
出願人:株式会社日立製作所
-
配線の形成方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-041033
出願人:カシオ計算機株式会社
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審査官引用 (5件)
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