特許
J-GLOBAL ID：200903066023544179

有機EL素子及びその製造方法

発明者：
浮島 禎之

浮島 禎之 について

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伊藤 正博

伊藤 正博 について

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一戸 裕司

一戸 裕司 について

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李 傑煕

李 傑煕 について


出願人/特許権者：
株式会社アルバック

株式会社アルバック について


代理人 (1件)： 阿部 英樹 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-284730
公開番号（公開出願番号）：特開2003-092188
出願日： 2001年09月19日
公開日（公表日）： 2003年03月28日
要約：
【要約】【課題】良好な膜質を有し、有機EL素子用として好適な薄膜絶縁層を形成する技術を提供する。【解決手段】本発明は、ガラス基板11上のITO電極12及び陰極18間にパターン状の絶縁層13を有する有機EL素子であって、絶縁層13が、蒸着重合によるポリイミド膜からなる。絶縁層13の表面には、無機絶縁膜14としてSiO2膜が形成されている。
請求項（抜粋）：
基板上の陽極及び陰極間にパターン状の絶縁層を有する有機EL素子であって、前記絶縁層が、蒸着重合による高分子膜を有することを特徴とする有機EL素子。
IPC (3件)：
H05B 33/22 ,  H05B 33/10 ,  H05B 33/14
FI (3件)：
H05B 33/22 Z ,  H05B 33/10 ,  H05B 33/14 A
Fターム (11件)：
3K007AB05 ,  3K007AB11 ,  3K007AB18 ,  3K007BA06 ,  3K007CA01 ,  3K007CB01 ,  3K007DA01 ,  3K007DB03 ,  3K007EA00 ,  3K007EB00 ,  3K007FA01
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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