特許

J-GLOBAL ID：200903066052836227

真空浸炭方法及び装置

発明者： 和歌 正臣 ,  門野 徹 ,  原井 哲 ,  岡田 徹也 ,  今井 直明
出願人/特許権者： 株式会社不二越
代理人 (1件)： 河内 潤二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-104855
公開番号（公開出願番号）：特開2000-001765
出願日： 1999年04月13日
公開日（公表日）： 2000年01月07日
要約：

【要約】【課題】 コーナー部も含めた表面炭素濃度過多による不具合を解決し、かつ幅広い浸炭圧力での処理が可能で煤の発生も無い安価な真空浸炭処理方法、装置を提供。【解決手段】 浸炭ガスとしてエチレンガス又はエチレンガスとアセチレンガスとの混合ガスを用い、浸炭ガスの供給量を高流量レベルから低流量レベルさらに高流量レベルと周期的又はパルス状に変化させ、かつ高流量レベル時の浸炭室10の圧力を1〜10kPaの範囲にし、高流量レベルに対する低流量レベルの流量レベル比を0〜50%、時間比を50〜3,000%とし、さらに浸炭室内の圧力の調整を、真空排気装置12と浸炭室の排気口17間に設けられたバルブ又は可動オリフィス機構16を調整することにより行う。

請求項（抜粋）：

真空浸炭処理において、浸炭ガスとしてエチレンガス又はエチレンガスとアセチレンガスの混合ガスを用い、該浸炭ガスの供給量を少なくとも一度高流量レベルから低流量レベルへ、さらに高流量レベルから低流量レベルへと、繰り返して変化させ、かつ前記浸炭ガスの高流量レベル時の浸炭室の圧力が1〜10kPaの範囲にされていることを特徴とする真空浸炭方法。

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 金属の浸炭方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-352428   出願人：同和鉱業株式会社
• 真空浸炭方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-330688   出願人：日本精工株式会社
• 特開昭53-022131