特許
J-GLOBAL ID:200903066068527615
レーザ加工装置
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
武 顕次郎
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-146481
公開番号(公開出願番号):特開2003-334685
出願日: 2002年05月21日
公開日(公表日): 2003年11月25日
要約:
【要約】【課題】 2つのスキャニング光学系を1つの加工レンズに対応させる場合であっても、加工対象に品質の優れる穴を加工することができるレーザ加工装置を提供すること。【解決手段】 光路分離手段により1つの光路を第1の光路と第2の光路に分割する。そして、2次元偏向手段15により第1の光路を通るレーザ光を偏向させると共に、2次元偏向手段22により第2の光路を通るレーザ光を偏向させ、偏光ビームスプリッタ25により第1の光路と第2の光路を1つにして、加工レンズ30に入射させる。
請求項(抜粋):
レーザ光の光路上に配置され前記光路を第1の光路と第2の光路に分離する光路分離手段と、前記第1の光路上に配置され前記レーザ光を偏向する第1の2次元偏向手段と、前記第2の光路上に配置され前記レーザ光を偏向する第2の2次元偏向手段と、前記第1および第2の2次元偏向手段で偏向された前記レーザ光を加工対象に集光する加工レンズと、を備えるレーザ加工装置において、分離された前記第1の光路と前記第2の光路を1つの光路に統合する光路統合手段を設け、前記光路分離手段から前記光路統合手段に至る前記第1の光路の長さと前記第2の光路の長さが等しくなるように、前記第1の2次元偏向手段と前記第2の2次元偏向手段を配置し、前記第1の2次元偏向手段および前記第2の2次元偏向手段により偏向された前記レーザ光を1個の前記加工レンズに入射させることを特徴とするレーザ加工装置。
IPC (2件):
FI (2件):
B23K 26/06 C
, G02B 27/28 Z
Fターム (10件):
2H099AA17
, 2H099BA17
, 2H099CA17
, 4E068AF01
, 4E068CA05
, 4E068CD02
, 4E068CD04
, 4E068CD08
, 4E068CD10
, 4E068DA11
引用特許: