特許
J-GLOBAL ID：200903066127667060

親水性硬化物、親水性硬化物を含む積層体、親水性硬化物用組成物および親水性硬化物の製造方法

発明者：
関口 学

関口 学 について

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杉山 直樹

杉山 直樹 について

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佐藤 穂積

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出願人/特許権者：
ジェイエスアール株式会社

ジェイエスアール株式会社 について


代理人 (1件)： 渡辺 喜平 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-346707
公開番号（公開出願番号）：特開2000-169755
出願日： 1998年12月07日
公開日（公表日）： 2000年06月20日
要約：
【要約】【課題】 優れた親水性等を有するとともに、酸素存在下においても光硬化反応により形成可能である親水性硬化物、それを含む積層体、親水性硬化物用組成物、および親水性硬化物の製造方法を提供する。【解決手段】 下記(A)〜(C)成分を含有する光硬化性組成物を光硬化してなる親水性硬化物、それを含む積層体、親水性硬化物用組成物、および親水性硬化物の製造方法である。(A)一般式(1)で示される加水分解性シラン化合物、その加水分解物、およびその縮合物からなる群から選択される少なくとも一つの化合物(R1)PSi(X)4-P (1)[一般式(1)中、R1は炭素数が1〜12である非加水分解性の有機基、Xは加水分解性基、およびpは0〜3の整数である。](B)光酸発生剤(C)光触媒
請求項（抜粋）：
下記(A)〜(C)成分を含有する光硬化性組成物を光硬化してなる親水性硬化物。(A)一般式(1)で示される加水分解性シラン化合物、その加水分解物、およびその縮合物からなる群から選択される少なくとも一つの化合物(R1)PSi(X)4-P (1)[一般式(1)中、R1は炭素数が1〜12である非加水分解性の有機基、Xは加水分解性基、およびpは0〜3の整数である。](B)光酸発生剤(C)光触媒
IPC (5件)：
C09D 5/00 ,  B01J 35/02 ,  B32B 9/00 ,  B32B 27/00 101 ,  C09D183/04
FI (7件)：
C09D 5/00 L ,  C09D 5/00 C ,  C09D 5/00 Z ,  B01J 35/02 J ,  B32B 9/00 Z ,  B32B 27/00 101 ,  C09D183/04
Fターム (36件)：
4F100AA19H ,  4F100AA21H ,  4F100AK52A ,  4F100AL06A ,  4F100BA01 ,  4F100CA30 ,  4F100DE01A ,  4F100EH46 ,  4F100EH462 ,  4F100EJ54 ,  4F100EJ542 ,  4F100JB05 ,  4F100JL08H ,  4F100YY00H ,  4G069AA08 ,  4G069BA03A ,  4G069BA03B ,  4G069BA04A ,  4G069BA04B ,  4G069BA48A ,  4G069BE06A ,  4G069BE08A ,  4G069BE32A ,  4G069BE32B ,  4G069ED02 ,  4G069EE06 ,  4G069FC04 ,  4J038DL031 ,  4J038HA216 ,  4J038HA446 ,  4J038JC32 ,  4J038KA04 ,  4J038KA07 ,  4J038NA06 ,  4J038PA17 ,  4J038PB03
引用特許：
審査官引用 (11件)
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