特許
J-GLOBAL ID:200903066139018440
X線回折測定方法及びX線回折装置
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
長谷川 曉司
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-012849
公開番号(公開出願番号):特開2003-215069
出願日: 2002年01月22日
公開日(公表日): 2003年07月30日
要約:
【要約】【課題】 複数の試料に対してX線回折測定を行う場合に、それぞれの試料のX線回折パターンが独立に正確に得られにくいという問題点があった。【解決手段】 X線を試料に向けて照射するためのX線照射部と回折X線を検出するための回折X線検出部と試料を保持するための試料保持部とを有するX線回折装置において、試料保持部の所定位置に光を照射する光照射部と、光照射部から発生した光を試料に照射して得た反射光を受光する受光部と、反射光の受光角度又は受光位置を測定し、それに応じて試料保持部の試料の厚さ方向の移動距離を決定する位置制御部と、決定された移動距離に応じて試料保持部を試料の厚さ方向に移動させる移動部とを有する位置調整機構を有する、ことを特徴とするX線回折装置。
請求項(抜粋):
複数の固体試料のX線回折像を連続的に測定するX線回折測定方法であって、各試料のX線回折像の測定開始前に、予め測定した試料の厚さ方向の位置に基づいて試料の厚さ方向の位置調整を行うことを特徴とする方法。
IPC (3件):
G01N 23/201
, G01B 11/00
, G21K 1/06
FI (3件):
G01N 23/201
, G01B 11/00 B
, G21K 1/06 K
Fターム (23件):
2F065AA06
, 2F065FF01
, 2F065FF09
, 2F065GG06
, 2F065HH04
, 2F065HH13
, 2F065JJ03
, 2F065JJ08
, 2F065JJ26
, 2F065LL28
, 2F065PP12
, 2G001AA01
, 2G001BA18
, 2G001CA01
, 2G001GA01
, 2G001JA12
, 2G001LA06
, 2G001PA11
, 2G001PA14
, 2G001QA01
, 2G001RA03
, 2G001SA02
, 2G001SA07
引用特許:
審査官引用 (5件)
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X線反射率測定装置及び測定方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-128166
出願人:理学電機株式会社, 株式会社日立製作所
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特開平2-035343
-
微小領域X線回折装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-052541
出願人:理学電機株式会社
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特開昭62-234568
-
化学反応処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2000-030320
出願人:独立行政法人物質・材料研究機構, 日製産業株式会社
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引用文献:
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