特許
J-GLOBAL ID:200903066139092208
半導体レーザ装置及びその製造方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
高田 守 (外4名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-109567
公開番号(公開出願番号):特開平8-307013
出願日: 1995年05月08日
公開日(公表日): 1996年11月22日
要約:
【要約】【目的】 ウエハ状態で、簡便かつ制御性のよい窓構造が得られる半導体レーザ装置及びその製造方法の提供を目的とする。【構成】 本発明の半導体レーザ装置は、格子面(2,1,1)を有するn-GaAs基板26の上に結晶成長した結晶成長層2、10、11、12、6及び7の、レーザ光が出力される格子面(1,1,1)に窓層19を形成し、結晶成長層のうちのコンタクト層7の上面及びn-GaAs基板26の下面に設けた電極8及び9を形成した構成である。
請求項(抜粋):
格子面{2,1,1}GaAs基板上に結晶成長した結晶成長層と、この結晶成長層の格子面{1,1,1}に形成した窓面と、この窓面に積層した窓層と、上記結晶成長層の上面及び上記GaAs基板の下面に設けた電極とを具備したことを特徴とする半導体レーザ装置。
IPC (2件):
FI (2件):
引用特許: