高周波加熱装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：滝本智之 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-291428
公開番号（公開出願番号）：特開平10-134958
出願日： 1996年11月01日
公開日（公表日）： 1998年05月22日
要約：

【要約】【課題】本発明は、高周波誘電加熱手段と高周波誘導加熱手段を複合化し、装置全体を扁平構成にしても、高火力,均一加熱で高速加熱と表面焼き調理を同時に行い、調理時間を短縮できるようにする。【解決手段】加熱皿11の上部に薄型矩形の加熱室1と下部に電波伝播路Aとを設けて上下キャビティを構成するとともに、加熱コイル6を包囲する電磁波遮蔽室8壁の外側部にマグネトロン14と連結した給電口13、導波管16部を横並びに併設することにより、薄型コンパクト構成で、設置が自由で使い勝手が良く、機能的には高火力,均一加熱作用で、高速加熱、焼き調理を短時間にすることができる。

請求項（抜粋）：

矩形断面の加熱室に設けられた加熱室ドアと、前記加熱室下部に設けられた機械室と、前記機械室の上面略中央部分に耐熱誘電材料からなる仕切板を設けかつ、仕切板上に載置した耐熱誘電材料からなる加熱皿と、前記加熱皿の底面の表面または裏面に装着した金属材料よりなる環状の加熱板と、前記仕切板の下面に絶縁配置された加熱コイルと、前記加熱コイルの外側面および底面と非磁性電気良導体材料よりなる略凹状に構成された電磁波遮蔽室の内壁面との間に一定以上の隙間を有して形成された電波伝播路Aと、マイクロ波を発生するマグネトロンと、発生したマイクロ波を導く導波管を横並びに併設し、機械室の上板の一部に設けられた給電口から直接前記加熱室内にマイクロ波を給電してなる高周波加熱装置。

IPC (3件)：

H05B 11/00 , H05B 6/12 302 , H05B 6/64

FI (3件)：

H05B 11/00 Z , H05B 6/12 302 , H05B 6/64 D

引用特許：

出願人引用 (5件)

特開昭63-225495
高周波加熱装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-235915 出願人：株式会社東芝
特開平4-065097

全件表示

審査官引用 (3件)

特開昭63-225495
高周波加熱装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-235915 出願人：株式会社東芝
特開平4-065097

前のページに戻る