特許

J-GLOBAL ID：200903066191700798

ナノ気孔を有する物質を製造するための組成物

発明者： 林 珍 亨 ,  柳 利 烈 ,  馬 相 國 ,  羅 恩 珠 ,  ▲黄▼ 日 宣 ,  尹 根 秉
出願人/特許権者： 三星電子株式会社
代理人 (1件)： 八田 幹雄 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-016754
公開番号（公開出願番号）：特開2002-293989
出願日： 2002年01月25日
公開日（公表日）： 2002年10月09日
要約：

【要約】【課題】 本発明はナノ気孔を有する物質を形成するための組成物を提供する。【解決手段】 シクロデキストリン誘導体と、熱的に安定な有機または無機マトリックス前駆体と、溶媒とを含む、ナノ気孔を有する物質を形成するための組成物である。当該組成物から製造された物質は、50Å以下レベルの気孔を有し、その分布が均一であるため、半導体に用いられる層間絶縁膜を提供することができる。

請求項（抜粋）：

シクロデキストリン誘導体と、熱的に安定な有機または無機マトリックス前駆体と、前記シクロデキストリン誘導体と前記有機または無機マトリックス前駆体とを溶解させる溶媒とを含む、ナノ気孔を有する物質を形成するための組成物。

IPC (6件)：

C08L 5/16 ,  C08K 5/541 ,  C08L 83/04 ,  C08L101/00 ,  H01L 21/768 ,  C08B 37/16

FI (6件)：

C08L 5/16 ,  C08L 83/04 ,  C08L101/00 ,  C08B 37/16 ,  C08K 5/54 ,  H01L 21/90 J

Fターム (24件)：

4C090AA05 ,  4C090AA08 ,  4C090BA11 ,  4C090BD50 ,  4C090CA06 ,  4C090DA05 ,  4C090DA31 ,  4J002AB05W ,  4J002CE00X ,  4J002CH07X ,  4J002CM04X ,  4J002CP03X ,  4J002CP08X ,  4J002EX026 ,  4J002EX036 ,  4J002GQ01 ,  4J002GQ05 ,  4J002HA05 ,  5F033QQ74 ,  5F033RR21 ,  5F033RR25 ,  5F033RR29 ,  5F033SS22 ,  5F033XX24

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 膜形成用組成物、膜の形成方法および多孔質膜
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-289477   出願人：ジェイエスアール株式会社
• 多孔質膜
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-135785   出願人：ジェイエスアール株式会社
• 絶縁材用樹脂組成物及びこれを用いた絶縁材
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-280445   出願人：住友ベークライト株式会社
• 特許第3739331号