特許
J-GLOBAL ID:200903078509245066

膜形成用組成物、膜の形成方法および多孔質膜

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-289477
公開番号(公開出願番号):特開2000-119601
出願日: 1998年10月12日
公開日(公表日): 2000年04月25日
要約:
【要約】【目的】 膜形成用組成物、さらに詳しくは、密着性、塗膜の均一性等に優れた、低誘電率膜形成用組成物、該組成物を硬化して得られる多孔質膜を得る。【構成】 (A)金属アルコキシド、その加水分解物およびその部分縮合物から選ばれる少なくとも1種ならびに(B)シリル基変性糖鎖構造化合物、ポリアルキレンオキシド構造を有する化合物、親油性化合物、マイクロエマルジョンから選ばれる少なくとも1種を含むことを特徴とする膜形成用組成物。
請求項(抜粋):
(A)金属アルコキシド、その加水分解物およびその部分縮合物から選ばれる少なくとも1種ならびに(B)シリル基変性糖鎖構造化合物、ポリアルキレンオキシド構造を有する化合物、親油性化合物、マイクロエマルジョンから選ばれる少なくとも1種を含むことを特徴とする膜形成用組成物。
IPC (12件):
C09D201/00 ,  C09D 5/00 ,  C09D 5/25 ,  C09D 7/12 ,  C09D105/00 ,  C09D171/02 ,  C09D179/08 ,  C09D183/04 ,  H01L 23/29 ,  H01L 23/31 ,  B05D 3/02 ,  B05D 5/12
FI (11件):
C09D201/00 ,  C09D 5/00 J ,  C09D 5/25 ,  C09D 7/12 Z ,  C09D105/00 ,  C09D171/02 ,  C09D179/08 ,  C09D183/04 ,  B05D 3/02 Z ,  B05D 5/12 D ,  H01L 23/30 R
Fターム (34件):
4D075BB21Z ,  4D075CA23 ,  4D075DA06 ,  4D075DC22 ,  4D075EA07 ,  4D075EA13 ,  4J038AA011 ,  4J038BA081 ,  4J038BA091 ,  4J038BA121 ,  4J038BA161 ,  4J038DD061 ,  4J038DF021 ,  4J038DJ001 ,  4J038DJ021 ,  4J038DM021 ,  4J038GA15 ,  4J038JA19 ,  4J038JA22 ,  4J038JA23 ,  4J038JA61 ,  4J038JC38 ,  4J038KA09 ,  4J038MA07 ,  4J038NA12 ,  4J038NA17 ,  4J038PA19 ,  4M109AA02 ,  4M109CA05 ,  4M109DB17 ,  4M109ED01 ,  4M109ED03 ,  4M109ED07 ,  4M109EE07
引用特許:
審査官引用 (7件)
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