特許
J-GLOBAL ID:200903078509245066
膜形成用組成物、膜の形成方法および多孔質膜
発明者:
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出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-289477
公開番号(公開出願番号):特開2000-119601
出願日: 1998年10月12日
公開日(公表日): 2000年04月25日
要約:
【要約】【目的】 膜形成用組成物、さらに詳しくは、密着性、塗膜の均一性等に優れた、低誘電率膜形成用組成物、該組成物を硬化して得られる多孔質膜を得る。【構成】 (A)金属アルコキシド、その加水分解物およびその部分縮合物から選ばれる少なくとも1種ならびに(B)シリル基変性糖鎖構造化合物、ポリアルキレンオキシド構造を有する化合物、親油性化合物、マイクロエマルジョンから選ばれる少なくとも1種を含むことを特徴とする膜形成用組成物。
請求項(抜粋):
(A)金属アルコキシド、その加水分解物およびその部分縮合物から選ばれる少なくとも1種ならびに(B)シリル基変性糖鎖構造化合物、ポリアルキレンオキシド構造を有する化合物、親油性化合物、マイクロエマルジョンから選ばれる少なくとも1種を含むことを特徴とする膜形成用組成物。
IPC (12件):
C09D201/00
, C09D 5/00
, C09D 5/25
, C09D 7/12
, C09D105/00
, C09D171/02
, C09D179/08
, C09D183/04
, H01L 23/29
, H01L 23/31
, B05D 3/02
, B05D 5/12
FI (11件):
C09D201/00
, C09D 5/00 J
, C09D 5/25
, C09D 7/12 Z
, C09D105/00
, C09D171/02
, C09D179/08
, C09D183/04
, B05D 3/02 Z
, B05D 5/12 D
, H01L 23/30 R
Fターム (34件):
4D075BB21Z
, 4D075CA23
, 4D075DA06
, 4D075DC22
, 4D075EA07
, 4D075EA13
, 4J038AA011
, 4J038BA081
, 4J038BA091
, 4J038BA121
, 4J038BA161
, 4J038DD061
, 4J038DF021
, 4J038DJ001
, 4J038DJ021
, 4J038DM021
, 4J038GA15
, 4J038JA19
, 4J038JA22
, 4J038JA23
, 4J038JA61
, 4J038JC38
, 4J038KA09
, 4J038MA07
, 4J038NA12
, 4J038NA17
, 4J038PA19
, 4M109AA02
, 4M109CA05
, 4M109DB17
, 4M109ED01
, 4M109ED03
, 4M109ED07
, 4M109EE07
引用特許:
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