特許
J-GLOBAL ID:200903066236840049

ウレタン(メタ)アクリレートの製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-093607
公開番号(公開出願番号):特開2003-286340
出願日: 2002年03月29日
公開日(公表日): 2003年10月10日
要約:
【要約】【課題】 反応中の粘度の増加やゲル化を起こさず、低臭気かつ、貯蔵安定性に優れたウレタン(メタ)アクリレートの製造方法を提供する。【解決手段】 (メタ)アクリロイル基を有するモノオールとイソシアネート化合物とを反応させ、式(1)で示されるウレタン(メタ)アクリレートを製造する方法において、R1-(NHCOR2)a (1)(R1はa価のイソシアネート化合物の脱イソシアネート残基、aは2〜10の整数、R2は式(2)で示される(メタ)アクリロイル基を有するモノオールの脱水素残基){CH2=C(R3)COO}b-1-X-OH (2)(R3はHまたはCH3、Xはb価の多価アルコールの脱水酸基残基、bは2〜6の整数)反応前に(メタ)アクリロイル基を有するモノオールを20〜90°Cで脱水し、その後イソシアネート化合物を滴下して反応を行うことを特徴とするウレタン(メタ)アクリレートの製造方法。
請求項(抜粋):
(メタ)アクリロイル基を有するモノオールとイソシアネート化合物とを反応させ、式(1)で示されるウレタン(メタ)アクリレートを製造する方法において、R1-(NHCOR2)a (1)(R1はa価のイソシアネート化合物の脱イソシアネート残基、aは2〜10の整数、R2は式(2)で示される(メタ)アクリロイル基を有するモノオールの脱水素残基){CH2=C(R3)COO}b-1-X-OH (2)(R3はHまたはCH3、Xはb価の多価アルコールの脱水酸基残基、bは2〜6の整数)反応前に(メタ)アクリロイル基を有するモノオールを20〜90°Cで脱水し、その後イソシアネート化合物を滴下して反応を行うことを特徴とするウレタン(メタ)アクリレートの製造方法。
Fターム (4件):
4J005AA12 ,  4J005BA00 ,  4J005BC00 ,  4J005BD05
引用特許:
審査官引用 (8件)
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