特許
J-GLOBAL ID：200903066239240573

縦型加熱装置

発明者：
渡辺 文夫

渡辺 文夫 について


出願人/特許権者：
助川電気工業株式会社

助川電気工業株式会社 について


代理人 (1件)： 北條 和由
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-177030
公開番号（公開出願番号）：特開2001-007035
出願日： 1999年06月23日
公開日（公表日）： 2001年01月12日
要約：
【要約】【課題】 加熱処理サイクルが短く、短時間処理が可能であり、省エネルギー型で、高品質な処理が可能で、しかもヒータの寿命の長い縦型加熱装置【解決手段】 縦型加熱装置は、加熱処理される加熱物が収納される空間を周囲から囲むように立設された円筒形の化学的、熱的に安定した材料からなるインナーチューブ8と、このインナーチューブ8を囲むように立設され、内部を気密空間に保持する化学的、熱的に安定した材料からなるアウターチューブ9と、これらアウターチューブ9とインナーチューブ8の内部を加熱するヒータ12、13とを有する。そして、アウターチューブ9の周囲を囲むように真空空間3を形成し、この真空空間3内に前記アウターチューブ9を囲んでヒータ12、13が設けられている。
請求項（抜粋）：
加熱処理される加熱物が収納される空間を周囲から囲むように立設された円筒形の化学的、熱的に安定した材料からなるインナーチューブ(8)と、このインナーチューブ(8)を囲むように立設され、内部を気密空間に保持する化学的、熱的に安定した材料からなるアウターチューブ(9)と、これらアウターチューブ(9)とインナーチューブ(8)の内部を加熱するヒータ(12)、(13)とを有する縦型加熱装置において、アウターチューブ(9)の周囲を囲むように真空空間(3)を形成し、この真空空間(3)内に前記アウターチューブ(9)を囲んでヒータ(12)、(13)を設けたことを特徴とする縦型加熱装置。
IPC (3件)：
H01L 21/22 511 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/324
FI (4件)：
H01L 21/22 511 A ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/324 G ,  H01L 21/324 K
Fターム (12件)：
5F045AA03 ,  5F045AD07 ,  5F045AD08 ,  5F045AD09 ,  5F045BB08 ,  5F045DP19 ,  5F045EC02 ,  5F045EJ06 ,  5F045EJ10 ,  5F045EK06 ,  5F045EK08 ,  5F045GB05
引用特許：
審査官引用 (6件)
  • 特開昭63-137416
  • 特開昭63-137416
  • 半導体製造装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-049475   出願人：国際電気株式会社
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