特許
J-GLOBAL ID：200903066241051303

排気浄化装置

発明者：
五十嵐 龍起

五十嵐 龍起 について


出願人/特許権者：
日野自動車株式会社

日野自動車株式会社 について


代理人 (2件)： 山田 恒光 ,  大塚 誠一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-319850
公開番号（公開出願番号）：特開2005-083346
出願日： 2003年09月11日
公開日（公表日）： 2005年03月31日
要約：
【課題】電力消費量が少なくて済み且つ有害ガスを大気中に排出することのないプラズマアシスト型の排気浄化装置を実現する。【解決手段】排出ガス2を通過させて該排出ガス2中のパティキュレートを捕集する多孔質材により構成されるフィルタ本体7に、該フィルタ本体7の内部にプラズマを発生し得るよう棒状電極9及び筒状電極10を装備してプラズマ再生型パティキュレートフィルタ11を構成し、該プラズマ再生型パティキュレートフィルタ11を排気管3途中のフィルタケース12内に収容すると共に、該フィルタケース12内における前記プラズマ再生型パティキュレートフィルタ11の前後位置に、該プラズマ再生型パティキュレートフィルタ11に対し保温効果が得られるように酸化触媒16,17を近接配置する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
排出ガスを通過させて該排出ガス中のパティキュレートを捕集する多孔質材により構成されるフィルタ本体に、該フィルタ本体内部にプラズマを発生し得るよう電極を装備してプラズマ再生型パティキュレートフィルタを構成し、該プラズマ再生型パティキュレートフィルタを排気管途中のフィルタケース内に収容すると共に、該フィルタケース内における前記プラズマ再生型パティキュレートフィルタの前後位置に、該プラズマ再生型パティキュレートフィルタに対し保温効果が得られるように酸化触媒を近接配置したことを特徴とする排気浄化装置。
IPC (7件)：
F01N3/02 ,  B01D53/94 ,  B01J19/08 ,  F01N3/08 ,  F01N3/18 ,  F01N3/24 ,  F01N3/28
FI (10件)：
F01N3/02 301F ,  F01N3/02 301C ,  F01N3/02 321A ,  F01N3/02 321B ,  B01J19/08 E ,  F01N3/08 C ,  F01N3/18 B ,  F01N3/24 E ,  F01N3/28 301G ,  B01D53/36 103C
Fターム (75件)：
3G090AA03 ,  3G090AA04 ,  3G090AA06 ,  3G090BA01 ,  3G090BA08 ,  3G090CA05 ,  3G090EA02 ,  3G091AA02 ,  3G091AA18 ,  3G091AA28 ,  3G091AB02 ,  3G091AB13 ,  3G091AB14 ,  3G091BA00 ,  3G091BA03 ,  3G091BA04 ,  3G091BA15 ,  3G091BA19 ,  3G091BA21 ,  3G091BA31 ,  3G091CB02 ,  3G091CB03 ,  3G091DA01 ,  3G091DA02 ,  3G091DB10 ,  3G091EA30 ,  3G091EA32 ,  3G091FA02 ,  3G091FA04 ,  3G091FA06 ,  3G091FA12 ,  3G091FA13 ,  3G091FB02 ,  3G091FB10 ,  3G091FC02 ,  3G091FC04 ,  3G091FC07 ,  3G091GA06 ,  3G091GA16 ,  3G091GA19 ,  3G091GA20 ,  3G091GA24 ,  3G091GB01X ,  3G091GB06W ,  3G091GB10X ,  3G091GB17X ,  3G091HA08 ,  3G091HA14 ,  3G091HA15 ,  3G091HA16 ,  3G091HA45 ,  3G091HA47 ,  4D048AA14 ,  4D048AB01 ,  4D048BA30X ,  4D048BB02 ,  4D048CC32 ,  4D048CC43 ,  4D048CC52 ,  4D048CD05 ,  4D048EA03 ,  4D058JA32 ,  4D058MA41 ,  4D058MA44 ,  4D058SA08 ,  4G075AA37 ,  4G075BA05 ,  4G075BA06 ,  4G075CA15 ,  4G075CA47 ,  4G075DA02 ,  4G075EB01 ,  4G075EC21 ,  4G075EE33 ,  4G075FB04
引用特許：
出願人引用 (1件)
  • ガスのプラズマ処理
    公報種別：公表公報   出願番号：特願2000-529889   出願人：エイイーエイテクノロジーパブリックリミテッドカンパニー
審査官引用 (6件)
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