転写マスクおよびその製造方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：藤村康夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-066912
公開番号（公開出願番号）：特開平8-240904
出願日： 1995年03月01日
公開日（公表日）： 1996年09月17日
要約：

【要約】【目的】膜剥がれや拡散反応による劣化がなく耐久性に優れるとともに、電子伝導性や熱伝導性に優れ、高い開口精度および転写精度を有する転写マスクを提供する。【構成】転写マスクを、支持枠部11と、該支持枠部に支持された金属薄膜部3と、該金属薄膜部に形成された開口13とを有する構成とする。

請求項（抜粋）：

支持枠部と、該支持枠部に支持された金属薄膜部と、該金属薄膜部に形成された開口とを有することを特徴とする転写マスク。

IPC (2件)：

G03F 1/16 , H01L 21/027

FI (3件)：

G03F 1/16 B , G03F 1/16 A , H01L 21/30 541 R

引用特許：

審査官引用 (4件)

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