特許
J-GLOBAL ID:200903066381383179

接合方法及び接合構造

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 和泉 良彦 ,  小林 茂
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-012397
公開番号(公開出願番号):特開2006-202944
出願日: 2005年01月20日
公開日(公表日): 2006年08月03日
要約:
【課題】大面積の接合に有利な接合方法及び接合構造を提供する。【解決手段】第一の物体の第一の金属からなる第一の金属層11と、第二の物体の第二の金属からなる第二の金属層であるCu基板21aとの間に、内部に空孔を有し、第三の金属からなる多孔質金属層であるCuポーラス板3を介在させ、Agナノペースト4を、第一の金属層11とCuポーラス板3との間、及びCu基板21aとCuポーラス板3との間に設置し、加熱して接合する。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
第一の物体の第一の金属からなる第一の金属層と、第二の物体の第二の金属からなる第二の金属層との間に、内部に空孔を有し第三の金属からなる多孔質金属層を介在させ、 金属を含む有機系接合材を、前記第一の金属層と前記多孔質金属層との間、及び第二の金属層と前記多孔質金属層との間に設置し、 加熱して接合することを特徴とする接合方法。
IPC (1件):
H01L 21/60
FI (1件):
H01L21/60 311Q
Fターム (2件):
5F044LL07 ,  5F044LL13
引用特許:
出願人引用 (1件) 審査官引用 (2件)

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