特許
J-GLOBAL ID:200903066432332949

基板処理装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 長澤 俊一郎
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-037660
公開番号(公開出願番号):特開2000-236009
出願日: 1999年02月16日
公開日(公表日): 2000年08月29日
要約:
【要約】【課題】 装置の筐体を小型化することができ、処理部の待ち時間、ワークを交換する時間を短くすることができる基板処理装置を提供すること。【解決手段】 カセット載置部CS1、CS2と、露光処理部WS及びアライメント処理部FAとを2列に並べ、ワーク搬送機構RAの第1,第2のアームRA1、RA2の伸長方向にアライメント処理部FAとカセット載置部CS1を並べる。また、第1、第2のアームRA1、RA2の間隔と等しくなるように、上記処理部FA、WS、処理部WSとカセット載置部CS2を配置する。第1、第2のアームRA1,RA2はY方向に移動するとともにX方向に伸縮し、その先端に設けられたワーク保持部によりワークを保持し、カセット載置部CS1のカセットからワークWを取り出して処理部FA,WSに搬送し、処理済ワークWをカセットCS2のカセットに収納する。
請求項(抜粋):
複数のワークを収納するカセットを載置する複数のカセット載置部と、載置されたワークに対して第1の処理を行う第1処理部と、載置されたワークに対して第1の処理に続く第2の処理を行う第2の処理部と、第1の基台と、第1の基台上を直線移動する2つの第2の基台と、それぞれの第2の基台に設けられた第1および第2の搬送部とから構成され、上記第1および第2の搬送部はそれぞれワークを保持するための保持部を具備し、該保持部は、上記第2の基台の移動方向に対して直交する方向にそれぞれ独立して移動するように構成されてなる搬送機構とを備え、上記カセット載置部は、第2の基台の移動方向と平行な仮想線上に配置され、処理部は該仮想線と平行な他の仮想線上に配置され、上記搬送機構により、カセット載置部のカセットから取り出したワークを第1の処理部および第2の処理部に搬送して所定の処理を行い、処理済のワークをカセット載置部のカセットに収納することを特徴とする基板処理装置。
IPC (2件):
H01L 21/68 ,  H01L 21/027
FI (2件):
H01L 21/68 A ,  H01L 21/30 502 J
Fターム (14件):
5F031CA02 ,  5F031CA05 ,  5F031FA11 ,  5F031FA12 ,  5F031FA15 ,  5F031GA08 ,  5F031GA48 ,  5F031GA50 ,  5F031LA08 ,  5F031LA12 ,  5F031MA27 ,  5F046CD05 ,  5F046CD06 ,  5F046DA09
引用特許:
審査官引用 (2件)

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