ジルコニアゾルの製造方法およびジルコニアゾル

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：石田政久
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-336595
公開番号（公開出願番号）：特開2006-143535
出願日： 2004年11月19日
公開日（公表日）： 2006年06月08日
要約：

【課題】均一な粒子径分布を有し、安定性に優れたコロイド領域のジルコニアゾルを製造する。【解決手段】次の工程(a)〜(e)からなり、平均粒子径が5〜100nmの範囲にあるジルコニア微粒子が分散したゾルを製造する。(a)粒子成長調整剤の存在下、ジルコニウム化合物水溶液にアルカリ水溶液を加えてジルコニウム水酸化物ゲルの分散液を調製する工程、(b)前記ジルコニウム水酸化物ゲルを洗浄する工程、(c)前記洗浄したジルコニウム水酸化物ゲルの分散液を熟成する工程、(d)前記熟成したジルコニウム水酸化物ゲルを洗浄する工程、および、(e)粒子成長調整剤の存在下、前記洗浄したジルコニウム水酸化物ゲルの分散液を水熱処理する工程である。粒子成長調整剤はカルボン酸またはヒドロキシカルボン酸とし、水熱処理を100〜250°Cの温度範囲で行う。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

下記の工程(a)〜(e)からなることを特徴とする、平均粒子径が5〜100nmの範囲にあるジルコニア微粒子が分散したゾルの製造方法。 (a)粒子成長調整剤の存在下、ジルコニウム化合物水溶液にアルカリ水溶液を加えてジルコニウム水酸化物ゲルの分散液を調製する工程 (b)前記ジルコニウム水酸化物ゲルを洗浄する工程 (c)前記洗浄したジルコニウム水酸化物ゲルの分散液を熟成する工程 (d)前記熟成したジルコニウム水酸化物ゲルを洗浄する工程 (e)粒子成長調整剤の存在下、前記洗浄したジルコニウム水酸化物ゲルの分散液を水熱処理する工程

IPC (2件)：

C01G 25/02 , B01J 13/00

FI (2件)：

C01G25/02 , B01J13/00 C

Fターム (15件)：

4G048AA02 , 4G048AB02 , 4G048AD10 , 4G048AE06 , 4G065AA06 , 4G065AB03Y , 4G065AB11Y , 4G065AB17X , 4G065BA15 , 4G065BB01 , 4G065CA13 , 4G065DA09 , 4G065EA03 , 4G065EA10 , 4G065FA01

引用特許：

出願人引用 (10件)

ジルコニアゾルの製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-318444 出願人：三菱マテリアル株式会社
水和ジルコニアゾルおよびジルコニア粉末の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-207280 出願人：東ソー株式会社
特公平6-65610号公報

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審査官引用 (8件)

非磁性板状粒子とその製造方法、およびこの粒子を用いた研磨材、研磨体、研磨液
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-232334 出願人：日立マクセル株式会社
低活性ジルコニアの水性ゾル及びその製法
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-046025 出願人：日産化学工業株式会社
特開昭63-025205

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