特許
J-GLOBAL ID：200903066537715266

光学デバイス・光学デバイス製造方法

発明者：
梅木 和博

梅木 和博 について

, 
佐藤 正明

佐藤 正明 について


出願人/特許権者：
リコー光学株式会社

リコー光学株式会社 について


代理人 (1件)： 樺山 亨 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-041303
公開番号（公開出願番号）：特開平7-248403
出願日： 1994年03月11日
公開日（公表日）： 1995年09月26日
要約：
【要約】【目的】エッチングを利用して凹面を形成した新規な光学デバイスを実現する。【構成】フォトレジスト20の層を表面に形成されたデバイス材料10の、フォトレジスト20の層に対して露光と現像とを行って、所定の凹面形状201をフォトレジスト20の層に形成し、凹面形状201を出発形状とし、フォトレジスト20の層とデバイス材料10とに対して等方性のエッチングを行い、凹面形状201に応じた凹曲面形状101をデバイス材料10に形成する。
請求項（抜粋）：
フォトレジストの層を表面に形成されたデバイス材料の、上記フォトレジストの層に対して露光と現像とを行って、所定の凹面形状を上記フォトレジストの層に形成し、上記凹面形状を出発形状とし、フォトレジストの層とデバイス材料とに対して等方性のエッチングを行い、上記凹面形状に応じた凹曲面形状を上記デバイス材料に形成することを特徴とする光学デバイス製造方法。
引用特許：
出願人引用 (12件)
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審査官引用 (12件)
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