特許
J-GLOBAL ID:200903066551795469

真空弁装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 重野 剛
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-283838
公開番号(公開出願番号):特開2002-089743
出願日: 2000年09月19日
公開日(公表日): 2002年03月27日
要約:
【要約】【課題】 真空弁装置の組み立て作業性が著しく向上すると共に、真空弁装置の信頼性も著しく向上した真空弁装置を提供する。【解決手段】 真空弁装置30は、シリンダ32内にピストン34、ベローフラム36及びリターンスプリング38を配置し、該ピストン34に連結されたピストンロッド40の先端に弁体42をナット43によって取り付けた構成となっている。ピストン34の復動を検出するための検出器60は、ケーシング62と、該ケーシング62内に配置され、突部64aが該ケーシング62から突出した作動体64と、該作動体64を該突部64aの突出方向に付勢するリターンスプリング66と、該作動体64内に埋設されたマグネット68と、このマグネット68の磁束に感応するリードスイッチ70とを備えている。
請求項(抜粋):
シリンダ内にピストンが配置され、該シリンダとピストンとの間にベローフラムが介在され、該シリンダ内に負圧を導入することにより該ピストンが駆動される真空弁装置であって、該ピストンの動作検出手段を有する真空弁装置において、該動作検出手段は、移動してきたピストンが当接することにより該ピストンを検出する手段であることを特徴とする真空弁装置。
IPC (4件):
F16K 37/00 ,  E03F 5/22 ,  F16K 31/122 ,  F16K 31/126
FI (5件):
F16K 37/00 F ,  F16K 37/00 C ,  E03F 5/22 ,  F16K 31/122 ,  F16K 31/126 Z
Fターム (18件):
2D063AA07 ,  2D063DC04 ,  3H056AA01 ,  3H056BB09 ,  3H056BB33 ,  3H056BB44 ,  3H056BB47 ,  3H056CA07 ,  3H056CB03 ,  3H056CC02 ,  3H056CD04 ,  3H056DD10 ,  3H056GG05 ,  3H056GG14 ,  3H065AA01 ,  3H065BA01 ,  3H065BB16 ,  3H065CA01
引用特許:
審査官引用 (6件)
  • 真空弁
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平11-224114   出願人:積水化学工業株式会社
  • 真空弁の開閉検知機構
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平9-318468   出願人:積水化学工業株式会社
  • 特公昭51-022185
全件表示

前のページに戻る