特許
J-GLOBAL ID：200903066558741828
研磨布
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-308649
公開番号（公開出願番号）：特開2005-074576
出願日： 2003年09月01日
公開日（公表日）： 2005年03月24日
要約：
【課題】基板表面粗さが極めて小さい超高精度の仕上げでテクスチャー加工を行うことができ、且つ微細な研磨屑及び砥粒の基板表面への食い込みに起因する欠陥を抑制し、クリーニング効果が高いとともに、局所的な砥粒の凝集などに起因するスクラッチ欠点を極小化することができる研磨布を提供する。【解決手段】平均繊度0.001〜0.05dtexの極細短繊維束が3次元絡合した不織布とその内部空間に存在する高分子弾性体とからなり、少なくとも片面に該極細繊維からなる立毛面を有するシート状物において、該不織布を構成する極細短繊維のほとんどが丸みを帯びた断面形状を有する繊維であって、かつ、該断面形状のうち、3〜6角形様のものが全体の過半数を占めていることを特徴とするものである。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
平均繊度0.001〜0.05dtexの極細短繊維束が3次元絡合した不織布とその内部空間に存在する高分子弾性体とからなり、少なくとも片面に該極細繊維からなる立毛面を有するシート状物において、該不織布を構成する極細短繊維のほとんどが丸みを帯びた断面形状を有する繊維であって、かつ、該断面形状のうち、3〜6角形様のものが全体の過半数を占めていることを特徴とする研磨布。
IPC (4件)：
B24B37/00
, B24B1/00
, D04H1/42
, D04H1/64
B24B37/00 C
, B24B1/00 D
, D04H1/42 X
, D04H1/64 A
3C049AA07
, 3C049AA09
, 3C049CA01
, 3C049CB02
, 3C058AA07
, 3C058AA09
, 3C058CA01
, 3C058CB02
, 4L047AA21
, 4L047AA23
, 4L047AA27
, 4L047AB07
, 4L047AB08
, 4L047BA03
, 4L047CA02
, 4L047CA08
, 4L047CB10
, 4L047CC16
, 4L047DA00
