特許
J-GLOBAL ID：200903066639256614
X線またはEUV放射線発生方法および装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (5件)：
吉武 賢次
, 橘谷 英俊
, 佐藤 泰和
, 吉元 弘
, 川崎 康
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-515466
公開番号（公開出願番号）：特表2004-505421
出願日： 2001年07月18日
公開日（公表日）： 2004年02月19日
要約：
X線またはEUV放射線発生方法及び装置において、伝播されるターゲットジェットとの間で相互に作用するために、具体的には真空チャンバ内に電子ビームがもたらされる。ターゲットジェットは、排気口の開口部を介して所定の圧力の下で液体状の薬物を強制的に排出させることにより形成される。硬X線放射は、本質的にはプラズマ形成温度にまでジェットを加熱することなく、電子ビームエネルギーをブレムシュトラールング(Bremsstrahlung)および特性直線放射にまで変換することにより生成されても良い。軟X線またはEUV放射線は、ジェットをプラズマ形成温度にまで加熱する電子ビームにより生成されても良い。
請求項（抜粋）：
X線またはEUV放射線を生成するための方法であって、
圧力下で液体の物質を吐出口の開口部を介して吐出させることにより、相互作用の領域(9)を介して強くするターゲットジェット(5)を形成するステップと;
前記相互作用の領域(9)における前記ターゲットジェット(5)に対して少なくとも1つの電子ビーム(4)を方向付けて、この電子ビーム(4)がX線またはEUV放射線を生成するために前記ターゲットジェット(5)と相互に作用するステップと;
を備えるX線またはEUV放射線発生方法。
IPC (7件)：
H05G2/00
, G03F7/20
, G21K5/00
, G21K5/02
, G21K5/08
, G21K7/00
, H01L21/027
H05G1/00 J
, G03F7/20 503
, G21K5/00 Z
, G21K5/02 X
, G21K5/08 X
, G21K7/00
, H01L21/30 531S
, H05G1/00 K
2H097CA01
, 2H097CA15
, 2H097GB00
, 4C092AA07
, 4C092AA14
, 4C092AA15
, 4C092AB10
, 4C092AB21
, 4C092AB27
, 4C092AC01
, 4C092AC09
, 4C092AC20
, 5F046GC01
