特許

J-GLOBAL ID：200903066706941181

斜め蒸着装置および斜め蒸着方法

発明者： 国分 清
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (1件)： 前田 均 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-204431
公開番号（公開出願番号）：特開2003-013206
出願日： 2001年07月05日
公開日（公表日）： 2003年01月15日
要約：

【要約】【課題】 特に大型で薄型の基板であっても、膜厚分布および蒸着角度分布が均一となるように蒸着膜を形成することができ、しかも同時に複数枚の基板に対して蒸着処理が可能であり、生産性に優れ、さらに装置の小型化を図ることができ、メンテナンス性にも優れた斜め蒸着装置および斜め蒸着方法を提供すること。【解決手段】 斜め蒸着装置2は、内部に蒸着源8が配置される蒸着用チャンバ4と、蒸着用チャンバ4内で蒸着処理される少なくとも一つの基板10を、蒸着源から8の蒸気流F1の中心軸C1に対して所定距離離れて略平行に配置する基板ホルダ12と、を有する。基板ホルダ12は、基板10と共に、蒸気流F1の中心軸C1に沿って平行に移動させる。

請求項（抜粋）：

内部に蒸着源が配置される蒸着用チャンバと、前記蒸着用チャンバ内で蒸着処理される少なくとも一つの基板を、前記蒸着源からの蒸気流の中心軸に対して所定距離離れて略平行に配置する基板ホルダと、を有する斜め蒸着装置。

IPC (2件)：

C23C 14/24 ,  C23C 14/04

FI (3件)：

C23C 14/24 S ,  C23C 14/24 J ,  C23C 14/04 A

Fターム (7件)：

4K029AA29 ,  4K029BB03 ,  4K029CA01 ,  4K029CA15 ,  4K029HA01 ,  4K029JA01 ,  4K029KA09

引用特許：

審査官引用 (4件)

• レーザ蒸着法による薄膜の成膜方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-260846   出願人：住友電気工業株式会社
• 特開平2-197561
  
• 超電導薄膜の成膜方法と装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-174442   出願人：住友電気工業株式会社
• 特開昭61-247113