露光装置及び露光方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：立石篤司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-112521
公開番号（公開出願番号）：特開平8-288206
出願日： 1995年04月13日
公開日（公表日）： 1996年11月01日
要約：

【要約】【目的】倍率補正手段のみで、マスクの熱変形に起因する光学特性の変化に対して良好な補正を行なう。【構成】主ブラインド52により露光光によって照射されるレチクルR上の照射領域が設定され、この設定された照射領域に関する情報と既知のレチクルR上のパターンの分布情報とに基づいて、露光光の照射時にレチクルRの伸縮に関する物理量が、照射領域においてほぼ均一となるように、赤外線照射コントローラ66では、副ブラインド60調整した状態で赤外線を照射する。このようにしてレチクルRの伸縮が調整された状態で、倍率調整機構18では、レチクルRの伸縮に関する物理量に基づいて、ウエハ上に形成されるレチクルRのパターンの像の倍率を調整する。

請求項（抜粋）：

露光用の光源から射出される第1の波長特性の光によりマスクを照射し、当該マスク上のパターンの像を感光剤が塗布された基板上に形成する露光装置であって、前記第1の波長特性の光によって照射される前記マスク上の照射領域を設定する照射領域設定手段と;前記設定された照射領域に関する情報と既知の前記マスク上のパターンの分布情報とに基づいて、前記第1の波長特性の光の照射時に前記マスクの伸縮に関する物理量が、前記マスクの全体においてほぼ均一となるように調整することにより、前記マスクの伸縮を調整する伸縮調整手段と;前記マスクの伸縮に関する物理量に基づいて、前記マスクのパターンの像の倍率を調整する倍率調整系とを有する露光装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 521

FI (3件)：

H01L 21/30 514 C , G03F 7/20 521 , H01L 21/30 516 A

引用特許：

審査官引用 (6件)

露光マスクおよび投影露光方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-252386 出願人：株式会社ニコン
特開平1-251612
縮小投影露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-075287 出願人：新日本製鐵株式会社

全件表示

前のページに戻る