特許
J-GLOBAL ID：200903066830210381

化学増幅型ポジ型レジスト組成物

発明者：
末次 益実

末次 益実 について

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橋本 和彦

橋本 和彦 について

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戸石 好治

戸石 好治 について


出願人/特許権者：
住友化学株式会社

住友化学株式会社 について


代理人 (3件)： 久保山 隆 ,  中山 亨 ,  榎本 雅之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-068047
公開番号（公開出願番号）：特開2008-046594
出願日： 2007年03月16日
公開日（公表日）： 2008年02月28日
要約：
【課題】耐クラック性に優れた膜を形成しうる化学増幅型ポジ型レジスト組成物を提供する。【解決手段】(A)フェノール性水酸基の水素の一部がアセタール型の残基で置換されたポリ(ヒドロキシスチレン)重合体とノボラック重合体とを、1分子中に少なくとも2個のビニルエーテル基を含有する化合物と反応させて得られる樹脂と(B)酸発生剤とを含有する化学増幅型ポジ型レジスト組成物。前記ポリ(ヒドロキシスチレン)重合体が、式(I)で示される構造単位と、式(Ib)で示される構造単位とを有する重合体である前記記載の組成物。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
(A)フェノール性水酸基の水素の一部がアセタール型の残基で置換されたポリ(ヒドロキシスチレン)重合体とノボラック重合体とを、1分子中に少なくとも2個のビニルエーテル基を含有する化合物と反応させて得られる樹脂と(B)酸発生剤とを含有することを特徴とする化学増幅型ポジ型レジスト組成物。
IPC (3件)：
G03F 7/039 ,  G03F 7/004 ,  H01L 21/027
FI (3件)：
G03F7/039 601 ,  G03F7/004 503A ,  H01L21/30 502R
Fターム (14件)：
2H025AA02 ,  2H025AA10 ,  2H025AA13 ,  2H025AA18 ,  2H025AB15 ,  2H025AB16 ,  2H025AB17 ,  2H025AC01 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BF15 ,  2H025BG00 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17
引用特許：
出願人引用 (6件)
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