多層コーティング中の振幅欠陥の修復

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：石川泰男
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-509238
公開番号（公開出願番号）：特表2004-531905
出願日： 2002年04月18日
公開日（公表日）： 2004年10月14日
要約：

【解決手段】多層コーティングにおける振幅欠陥の修復のための方法および装置が提供される。振幅欠陥の下方にある有意な数の層は非損傷のものである。この修復技術は、欠陥を物理的に除去し、そして下方にある非損傷の層を露出させる広くかつ浅いクレーターを残すことによって、該コーティングの局所的反射率を修復するものである。粒子、ピットあるいはスクラッチが最初に除去され、そして、残存する損傷領域が、下方にある完全な層を擾乱することなく、エッチング除去される。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

多層コーティング中の振幅欠陥の修復方法であって、前記多層コーティングから振幅欠陥を引起すものを除去し(なお、該欠陥の除去後に前記多層コーティングの損傷領域は残存させる。)、そして、前記損傷領域をエッチングにて除去することを特徴とする多層コーティング中の振幅欠陥の修復方法。

IPC (3件)：

H01L21/027 , G03F1/16 , G21K1/06

FI (4件)：

H01L21/30 531M , G03F1/16 A , G03F1/16 G , G21K1/06 Z

Fターム (6件)：

2H095BA10 , 2H095BD33 , 2H095BD36 , 5F046GD10 , 5F046GD11 , 5F046GD15

引用特許：

審査官引用 (5件)

マスクの修正方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-004493 出願人：株式会社日立製作所
光学素子およびその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-326527 出願人：株式会社日立製作所
反射型マスクとその製造方法および修正方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-210614 出願人：株式会社日立製作所

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