特許

J-GLOBAL ID：200903066985196806

放熱物体の温度測定に使用する角濾波による放射輝度の測定

発明者： ワーナー・アロイス・ラウシュ ,  ジョーティ・シング
出願人/特許権者： インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション
代理人 (1件)： 合田 潔 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-264498
公開番号（公開出願番号）：特開平8-184496
出願日： 1995年10月12日
公開日（公表日）： 1996年07月16日
要約：

【要約】【課題】 チェンバの加熱エレメントへの電力供給を制御し、これにより所期の温度を得るために温度測定を利用して、高速熱処理チェンバ中のウェーハなどの、放射物体の温度を得る装置および方法。【解決の手段】 加熱エレメントは、放射輝度が測定されるスペクトル帯と重なるスペクトル帯の熱放射を発生させる。放射物体の温度は、物体の放射輝度の測定値および放射率の測定値から誘導される。温度測定の精度は、延長された角濾波アセンブリ、たとえば本発明の1実施例に示すように、1組のバッフルを通して物体の放射輝度を測定することによって改善される。反射光線は、バッフル・アセンブリにより捕捉され、したがって、放射輝度の測定誤差を生じない。放射輝度の測定は、特定の波長を選択するフィルタを通して行い、放射率の測定は、同一の波長で行う。

請求項（抜粋）：

あるスペクトル帯内の背景放射のある環境の、チェンバ内に置かれた物体の放射輝度の測定装置において、上記チェンバ外に置かれ、物体の表面要素からの光通路に沿って伝播する放射エネルギーを受けるための位置に置かれた、上記物体より放射される、上記スペクトル帯の放射エネルギーの検出装置と、上記光通路に置かれ、上記光通路に対して傾斜させた、上記背景放射の上記検出装置への伝播を抑制するための角濾波手段とを具備する装置。

IPC (2件)：

G01J 5/02 ,  G01J 5/06

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開昭63-061884
  
• 半導体製造方法及び製造装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-174624   出願人：富士通株式会社
• 基板表面の温度測定方法およびそれを利用した半導体成膜方法とその装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-071405   出願人：日本電気株式会社
• 特許第708318号