露光装置及びデバイス製造方法

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：藤元亮輔
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-311010
公開番号（公開出願番号）：特開2006-128194
出願日： 2004年10月26日
公開日（公表日）： 2006年05月18日
要約：

【課題】簡易な構成でグレイスケールを容易に実現すると共に、高いスループットを達成することができる露光装置及びデバイス製造方法を提供する。【解決手段】多階調のパターンを投影光学系を介して被処理体に露光する露光装置であって、2次元に配置された複数の画素を有し、前記画素の明暗の2値制御により光学像を形成する空間変調素子と、前記光学像を各列及び/又は各行毎に重ね合わせ、前記多階調のパターンを形成する重ね合わせ光学系とを有することを特徴とする露光装置を提供する。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

多階調のパターンを投影光学系を介して被処理体に露光する露光装置であって、 2次元に配置された複数の画素を有し、前記画素の明暗の2値制御により光学像を形成する空間変調素子と、前記光学像を各列及び/又は各行毎に重ね合わせ、前記多階調のパターンを形成する重ね合わせ光学系とを有することを特徴とする露光装置。

IPC (4件)：

H01L 21/027 , G02B 26/08 , G02B 26/10 , G03F 7/20

FI (5件)：

H01L21/30 515D , G02B26/08 E , G02B26/10 101 , G03F7/20 501 , H01L21/30 519

Fターム (13件)：

2H041AA14 , 2H041AA18 , 2H041AB14 , 2H045DA11 , 2H097BA02 , 2H097BB01 , 2H097GB04 , 2H097LA10 , 2H097LA12 , 2H097LA20 , 5F046AA25 , 5F046CB18 , 5F046DA11

引用特許：

出願人引用 (4件)

米国特許第5330878号
高画質パターン作成方法
公報種別：公表公報出願番号：特願2000-534918 出願人：マイクロニックレーザーシステムズアクチボラゲット
米国特許第5691541号

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