特許
J-GLOBAL ID：200903039386399556

リソグラフ装置およびデバイス製造方法

発明者：
カレル ディーデリック ヴァン デル マスト

カレル ディーデリック ヴァン デル マスト について


出願人/特許権者：
エイエスエムエル ネザランドズ ベスローテン フエンノートシャップ

エイエスエムエル ネザランドズ ベスローテン フエンノートシャップ について


代理人 (1件)： 浅村 皓 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-382826
公開番号（公開出願番号）：特開2003-243300
出願日： 2002年11月29日
公開日（公表日）： 2003年08月29日
要約：
【要約】 (修正有)【課題】比較的高いスループットでグレースケーリングを実行することができ、かつ比較的高い歩留まりで製造することができるリソグラフ装置およびデバイス製造方法を提供すること。【解決手段】 それぞれが異なるパターンおよび異なる強度を有する2つ以上のパターン形成された投影ビームを基板上に同時に投影する。つまり、各構成要素投影ビームPB1〜PB4は、それぞれの可変減衰器VA1〜VA4を通過し、個別の強度I1〜I4を生じ、I1〜I4を任意に選択することでグレースケーリングを実現する。
請求項（抜粋）：
第1の放射線投影ビームを供給する放射系と、第1の投影ビームを第1の所望のパターンに従ってパターン形成する第1のプログラム可能パターン形成手段と、基板を保持する基板テーブルと、第1のパターン形成された投影ビームを基板のターゲット部分に投影する投影系とを含むリソグラフ投影装置において、該装置が、放射系から供給された第2の投影ビームを第2の所望のパターンに従ってパターン形成する第2のプログラム可能パターン形成手段をさらに含み、前記投影系が、基板の前記ターゲット部分に第2のパターン形成された投影ビームを投影し、第1および第2のパターン形成された投影ビームの強度が異なることを特徴とする、リソグラフ投影装置。
IPC (2件)：
H01L 21/027 ,  G03F 7/20 504
FI (4件)：
G03F 7/20 504 ,  H01L 21/30 515 A ,  H01L 21/30 531 S ,  H01L 21/30 541 B
Fターム (12件)：
2H097CA16 ,  2H097LA10 ,  5F046AA28 ,  5F046CA10 ,  5F046CB22 ,  5F046DA01 ,  5F046DA02 ,  5F046GB09 ,  5F046GC05 ,  5F056AA33 ,  5F056CB03 ,  5F056EA02
引用特許：
審査官引用 (10件)
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