特許
J-GLOBAL ID：200903067150516156
シリカエアロゲルの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-367432
公開番号（公開出願番号）：特開2005-132641
出願日： 2003年10月28日
公開日（公表日）： 2005年05月26日
要約：
【課題】 低屈折率、低熱伝導率等のシリカエアロゲル特有の性質を維持したまま、さらに優れた光透過性を有し、必要により疎水性を有するシリカエアロゲルの製造方法を提供すること。【解決手段】 シリカ原料を含有する反応溶液を加水分解縮重合させて湿潤ゲルを作製し、これを超臨界乾燥することによってシリカエアロゲルを製造する、シリカエアロゲルの製造方法において、前記反応溶液中に双極子モーメントが2乃至4である溶媒を含むようにする。
請求項（抜粋）：
シリカ原料を含有する反応溶液を加水分解縮重合させて湿潤ゲルを作製し、これを超臨界乾燥することによってシリカエアロゲルを製造する、シリカエアロゲルの製造方法において、
前記反応溶液中に双極子モーメントが2乃至4である溶媒を含むことを特徴とするシリカエアロゲルの製造方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (13件)：
4G072AA28
, 4G072CC08
, 4G072GG01
, 4G072GG03
, 4G072HH30
, 4G072LL11
, 4G072LL14
, 4G072MM01
, 4G072PP05
, 4G072RR05
, 4G072RR07
, 4G072RR30
, 4G072TT30
出願人引用 (2件)
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米国特許第4402927号公報
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米国特許第5496527号公報
審査官引用 (5件)
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