特許
J-GLOBAL ID：200903067207864202
バイオセンサの製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
恩田 博宣
, 恩田 誠
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-218731
公開番号（公開出願番号）：特開2008-045877
出願日： 2006年08月10日
公開日（公表日）： 2008年02月28日
要約：
【課題】生産コストの低減と生産性の向上を可能にしたバイオセンサの製造方法を提供することである。【解決手段】バイオセンサの触媒層は、触媒材料を含む液状体の転写装置12を利用した触媒層転写工程によって受容層に転写される。また、バイオセンサの下地電極層は、下地電極材料を含む下地メッキ浴14を利用した下地電極層メッキ工程によって触媒層を覆うように無電解メッキされる。そして、バイオセンサの被覆電極層は、被覆電極材料を含む被覆メッキ浴16を利用した被覆電極層メッキ工程によって下地電極層を覆うように無電解メッキされる。【選択図】図3
請求項（抜粋）：
触媒材料を含む液状体を基板の電極形成領域に湿式転写して前記電極形成領域に触媒層を形成する触媒層形成工程と、
電極材料を含むメッキ液を前記触媒層に接触させて前記電極形成領域に電極層をメッキする電極層形成工程と、
を備えたことを特徴とするバイオセンサの製造方法。
IPC (1件)：
FI (2件)：
G01N27/30 353Z
, G01N27/30 353R
