特許

J-GLOBAL ID：200903067229092122

水素分離膜及び水素分離膜の製造方法

発明者： 大塚 健二 ,  箭原 繁雄
出願人/特許権者： 日本パイオニクス株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-340200
公開番号（公開出願番号）：特開2003-135943
出願日： 2001年11月06日
公開日（公表日）： 2003年05月13日
要約：

【要約】【課題】 構成成分としてパラジウムの使用量が少なく、機械的強度が高く、水素透過性能が高く、水素透過選択性に優れた水素分離膜及び水素分離膜の製造方法を開発する。【解決手段】 金属多孔体に多孔質セラミックス層を積層し、その上にCVD法でパラジウム膜またはパラジウム合金膜を形成して水素分離膜とする。

請求項（抜粋）：

金属多孔体に多孔質セラミックス層が積層され、該多孔質セラミック層の表面にパラジウム膜またはパラジウム合金膜がCVD法により形成されていることを特徴とする水素分離膜。

IPC (5件)：

B01D 71/02 500 ,  B01D 53/22 ,  B01D 69/12 ,  C01B 3/56 ,  C23C 16/18

FI (5件)：

B01D 71/02 500 ,  B01D 53/22 ,  B01D 69/12 ,  C01B 3/56 Z ,  C23C 16/18

Fターム (33件)：

4D006GA41 ,  4D006MA02 ,  4D006MA07 ,  4D006MA10 ,  4D006MA22 ,  4D006MA31 ,  4D006MB04 ,  4D006MB15 ,  4D006MC02X ,  4D006MC03X ,  4D006NA31 ,  4D006NA39 ,  4D006NA45 ,  4D006NA46 ,  4D006NA50 ,  4D006NA62 ,  4D006PA04 ,  4D006PB66 ,  4G040FA06 ,  4G040FB09 ,  4G040FC01 ,  4G040FE01 ,  4K030AA11 ,  4K030AA16 ,  4K030BA01 ,  4K030BB12 ,  4K030CA02 ,  4K030CA11 ,  4K030DA01 ,  4K030DA09 ,  4K030FA10 ,  4K030HA01 ,  4K030LA11

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 水素分離膜およびその製造法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-255004   出願人：エヌオーケー株式会社, 諸岡成治
• 水素分離膜の製造方法及び水素分離膜
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-038223   出願人：エヌオーケー株式会社