特許

J-GLOBAL ID：200903067311663782

X線マスク・ペリクル

発明者： ジュアン・アール・マルドネイド ,  ラウル・イー・エイコスタ ,  マリー・アンジェロパウロス ,  フアッド・イー・ドーニー ,  チャンドラセクハール・ナラヤン ,  アンドリュー・ティーエス・ポマレン ,  ジェーン・エム・ショー ,  カート・アール・キンメル
出願人/特許権者： インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション ,  ロッキード・マーチン・コーポレーション
代理人 (1件)： 坂口 博 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-235706
公開番号（公開出願番号）：特開平10-092743
出願日： 1997年09月01日
公開日（公表日）： 1998年04月10日
要約：

【要約】【課題】 X線マスクと、露光されるウェハとの間に配置され、X線マスクを汚染から保護すると共に、ウェハをマスクのX線吸収体物質との接触から保護するペリクルを提供する。【解決手段】 このペリクルは、必要とされるマスク対ウェハのギャップでX線露光を可能とするほど十分に薄く、しかも、十分に耐久性があり、置換可能であり、強固であり、X線リソグラフィで使用できるように対X線性がある膜11を有し、この膜は、X線マスク12の吸収体パターン15との接触を避けるのに十分な距離だけ、X線マスクから離間されている。また、ペリクル支持体16を有し、この上に膜11を取り付けて、X線マスク上へのX線マスク・ペリクルの交換可能な取り付けを可能にしている。さらに、支持リング13を有し、この上にX線マスク,X線ペリクル支持体,X線マスク・ペリクルが取り付けられている。

請求項（抜粋）：

X線マスクを保護するX線マスク・ペリクルであって、必要とされるマスク対ウェハのギャップでX線露光を可能とするほど十分に薄く、しかも、十分に耐久性があり、置換可能であり、丈夫であり、X線リソグラフィで使用できるように耐X線性がある膜を有し、前記膜は、X線マスクの吸収体パターンとの接触を避けるのに十分な距離だけ、前記X線マスクから離間されており、ペリクル支持体を有し、この上に前記膜を取り付けて、前記X線マスク上への前記X線マスク・ペリクルの交換可能な取り付けを可能にし、支持リングを有し、この上に前記X線マスク,X線ペリクル支持体,X線マスク・ペリクルが取り付けられている、ことを特徴とするX線マスク・ペリクル。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 1/14 ,  G03F 1/16

FI (3件)：

H01L 21/30 531 M ,  G03F 1/14 J ,  G03F 1/16 A

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開平4-240851
  
• X線マスク構造体とその製造方法、X線露光方法およびX線露光装置、並びに半導体デバイスとその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-123594   出願人：キヤノン株式会社
• 特開昭62-237727
  
• X線マスク構造体、該X線マスク構造体を用いたX線露光方法、前記X線マスク構造体を用いたX線露光装置、前記X線マスク構造体を用いた半導体デバイスの製造方法及び該製造方法によって製造された半導体デバイス
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-226413   出願人：キヤノン株式会社