特許
J-GLOBAL ID：200903067453328387

乾式脱硫プロセス用新規脱硫剤

発明者：
定方 正毅

定方 正毅 について

, 
西岡 将輝

西岡 将輝 について

, 
松島 徳彦

松島 徳彦 について

, 
中島 大智

中島 大智 について


出願人/特許権者：
独立行政法人科学技術振興機構

独立行政法人科学技術振興機構 について


代理人 (1件)： 宮本 晴視
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-325498
公開番号（公開出願番号）：特開2005-087893
出願日： 2003年09月18日
公開日（公表日）： 2005年04月07日
要約：
【目的】 脱硫率を改善した消石灰の微粒子を脱硫成分とする乾式脱硫剤の提供 【構成】 少なくとも10ppmの遷移金属のイオン、特にFe3+を配合した消石灰の微粒子を脱硫成分とする脱硫剤。特に前記消石灰の微粒子をフライアッシュからなるキャリヤー表面に付着させた構造からなる脱硫剤。 【選択図】 図2
請求項（抜粋）：
少なくとも10ppmの遷移金属のイオンを配合した消石灰の微粒子を脱硫成分とする脱硫剤。
IPC (3件)：
B01D53/50 ,  B01D53/81 ,  B01J20/04
FI (2件)：
B01D53/34 124Z ,  B01J20/04 C
Fターム (18件)：
4D002AA02 ,  4D002AC01 ,  4D002BA03 ,  4D002CA07 ,  4D002DA05 ,  4D002DA12 ,  4D002DA22 ,  4D002DA66 ,  4D002GA01 ,  4D002GB20 ,  4G066AA02D ,  4G066AA17B ,  4G066AA78C ,  4G066CA23 ,  4G066DA02 ,  4G066FA14 ,  4G066FA21 ,  4G066FA37
引用特許：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (2件)

前のページに戻る

TOP

BOTTOM