特許
J-GLOBAL ID：200903067551533690

フォトレジストフィルム及びそれを用いたレジストパターン形成方法

発明者：
佐藤 弘章

佐藤 弘章 について

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勝間 勝彦

勝間 勝彦 について

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辻本 篤志

辻本 篤志 について


出願人/特許権者：
日本合成化学工業株式会社

日本合成化学工業株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-119957
公開番号（公開出願番号）：特開2005-301099
出願日： 2004年04月15日
公開日（公表日）： 2005年10月27日
要約：
【課題】 青紫色レーザー露光による低露光条件下においても、高感度、高解像力、高細線密着性を有するフォトレジストフィルムを提供すること。【解決手段】 露光波長が390〜420nmのレーザー露光機で露光する際に用いるフォトレジストフィルムであって、カルボキシル基含有ポリマー(A)、エチレン性不飽和化合物(B)、光重合開始剤(C)及び、一般式(I)で示される化合物(D1)又は一般式(II)で示される化合物(D2)を含有してなる感光性樹脂組成物を支持体フィルムに積層してなるフォトレジストフィルム及びそれを用いたレジストパターン形成方法。【化1】(式中の記号は、明細書に記載の通りである。)【化2】(式中の記号は、明細書に記載の通りである。)
請求項（抜粋）：
露光波長が390〜420nmのレーザー露光機で露光する際に用いるフォトレジストフィルムであって、カルボキシル基含有ポリマー(A)、エチレン性不飽和化合物(B)、光重合開始剤(C)及び、下記一般式(I)で示される化合物(D1)又は下記一般式(II)で示される化合物(D2)を含有してなる感光性樹脂組成物を支持体フィルムに積層してなることを特徴とするフォトレジストフィルム。
IPC (4件)：
G03F7/004 ,  G03F7/027 ,  G03F7/033 ,  H05K3/06
FI (5件)：
G03F7/004 503Z ,  G03F7/004 512 ,  G03F7/027 502 ,  G03F7/033 ,  H05K3/06 J
Fターム (21件)：
2H025AA14 ,  2H025AB11 ,  2H025AB15 ,  2H025AB17 ,  2H025AC08 ,  2H025BC42 ,  2H025BC43 ,  2H025CA01 ,  2H025CA27 ,  2H025CA28 ,  2H025CB13 ,  2H025CB14 ,  2H025CB43 ,  2H025DA01 ,  2H025FA03 ,  2H025FA17 ,  5E339BD11 ,  5E339BE13 ,  5E339CD01 ,  5E339CF16 ,  5E339CF17
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (5件)
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