特許
J-GLOBAL ID：200903067576637309
パターンの位置合わせ方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
山川 政樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-130205
公開番号（公開出願番号）：特開平11-328410
出願日： 1998年05月13日
公開日（公表日）： 1999年11月30日
要約：
【要約】【課題】 検査ワークの局所的な歪みが許容範囲内であれば、これを補正する位置合わせを行う。【解決手段】 基準となるマスタパターンとカメラで撮像した被測定パターンの全体の位置合わせを行う(ステップ106)。被測定パターン中に複数の分割領域を設定し、これに対応する分割領域をマスタパターン中に設定する。被測定パターンの分割領域において少なくとも4点の位置決めマークの座標を求め、これに対応する位置決めマークの座標をマスタパターンの対応分割領域において求める。これらの座標より被測定パターンとマスタパターンの間の座標変換式を決定し、マスタパターンの分割領域を座標変換式によって変換し、マスタパターンと被測定パターンの位置合わせを分割領域ごとに行う(ステップ107)。
請求項（抜粋）：
基準となるマスタパターンとカメラで撮像した被測定パターンを比較することにより被測定パターンを検査するパターン検査方法において、マスタパターンと被測定パターンの位置合わせを行う位置合わせ方法であって、被測定パターンとマスタパターンの全領域について互いの位置決めマークの位置を合わせることによりマスタパターンと被測定パターンの全体の位置合わせを行った後に、被測定パターン中に複数の分割領域を設定すると共に、これに対応する複数の分割領域をマスタパターン中に設定し、被測定パターンの分割領域において少なくとも4点の位置決めマークの座標を求めると共に、これに対応する少なくとも4点の位置決めマークの座標をマスタパターンの対応分割領域において求め、これらの座標より被測定パターンとマスタパターンの間の座標変換式を決定し、マスタパターンの分割領域を前記座標変換式によって変換することにより、マスタパターンと被測定パターンの位置合わせを分割領域ごとに行うことを特徴とするパターンの位置合わせ方法。
IPC (5件)：
G06T 7/00
, G01B 11/24
, G01N 21/88
, H01L 23/12
, H05K 3/00
G06F 15/62 405 C
, G01B 11/24 F
, G01N 21/88 E
, H05K 3/00 Q
, H01L 23/12 P
, G06F 15/70 455 A
