特許
J-GLOBAL ID:200903067739555232

ガス化プラント用流動床ガス化炉の制御方法及び制御装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 熊谷 隆 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-306369
公開番号(公開出願番号):特開2003-113382
出願日: 2001年10月02日
公開日(公表日): 2003年04月18日
要約:
【要約】【課題】 原料として廃棄物を用いる場合であっても、容易に安定した運転が行なえるガス化プラント用流動床ガス化炉の自動制御方法及び装置を提供すること。【解決手段】 原料を流動床において熱分解する流動床ガス化炉4と、流動床ガス化炉4から送出される熱分解ガスを高温でガス改質して製品ガスとする高温ガス化炉7とを具備するガス化プラント用流動床ガス化炉である。本プロセスで合成される製品ガスの流量が予め設定した設定流量になるように流動床ガス化炉4に投入する原料の量を制御する原料供給量制御工程と、原料が流動床において熱分解ガス化されるに必要な炉床温度を設定し流動床ガス化炉4に供給する炉床吹込み酸素流量を設定した炉床温度になるように制御する炉床温度制御工程と、を具備することで本プロセスで合成される製品ガスの流量を予め設定した設定流量に制御する。
請求項(抜粋):
原料を流動床において熱分解する流動床ガス化炉と、流動床ガス化炉から送出される熱分解ガスを高温でガス改質して製品ガスとする高温ガス化炉とを具備するガス化プラント用流動床ガス化炉の制御方法において、本プロセスで合成される製品ガスの流量が予め設定した設定流量になるように、流動床ガス化炉に投入する原料の量を制御する原料供給量制御工程と、原料が流動床においてガス化されるに必要な炉床温度を設定し、流動床ガス化炉に供給する炉床吹込み酸素流量を前記設定した炉床温度になるように制御する炉床温度制御工程と、を具備することで前記プロセスで合成される製品ガスの流量を予め設定した設定流量にすることを特徴とするガス化プラント用流動床ガス化炉の制御方法。
IPC (5件):
C10J 3/00 ,  B01J 8/24 ,  C10J 3/54 ,  F23C 10/28 ,  F23G 5/30 ZAB
FI (8件):
C10J 3/00 K ,  B01J 8/24 ,  C10J 3/54 E ,  C10J 3/54 F ,  C10J 3/54 H ,  C10J 3/54 L ,  F23G 5/30 ZAB P ,  F23C 11/02 305
Fターム (21件):
3K064AA08 ,  3K064AA14 ,  3K064AA15 ,  3K064AB03 ,  3K064AC07 ,  3K064AC12 ,  3K064AC13 ,  3K064AC15 ,  3K064AC16 ,  3K064AD01 ,  3K064AD08 ,  3K064AE01 ,  3K064BA07 ,  3K064BA21 ,  4G070AA01 ,  4G070AB06 ,  4G070BB32 ,  4G070CB19 ,  4G070CC03 ,  4G070CC06 ,  4G070DA05
引用特許:
審査官引用 (4件)
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