特許
J-GLOBAL ID:200903067752557430

光学材料

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 石田 敬 (外4名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-213755
公開番号(公開出願番号):特開2001-040215
出願日: 1999年07月28日
公開日(公表日): 2001年02月13日
要約:
【要約】【課題】 フロロ炭化水素基を可能な限り凝集構造を発現させることなく、ポリシロキサン中に均一に分布させて、良好な光学的透明性、低屈折率、及び低分散の光学素子を形成しうるポリシロキサン樹脂系光学材料を提供する。【解決手段】 フロロ炭化水素をケイ素基をケイ素原子上の置換基とするケイ素原子を含むポリシロキサン樹脂100重量部と、コロイダルシリカ10〜100重量部とを含むポリシロキサン樹脂組成物を含む溶液を乾燥させることにより溶媒を除去して、付形し、加熱硬化し得るポリシロキサン樹脂組成物からなる光学材料。
請求項(抜粋):
RfSi3/2 (Rfは炭素数1以上12以下のフロロ炭化水素基である)で表わされる単位を有するポリシロキサン樹脂100重量部とコロイダルシリカ10重量部以上100重量部以下を含むポリシロキサン樹脂組成物を含むポリシロキサン樹脂組成物溶液を乾燥させることにより溶媒を除去し、付形し、加熱硬化し得る光学材料。
IPC (3件):
C08L 83/08 ,  C08K 3/36 ,  G02B 1/04
FI (3件):
C08L 83/08 ,  C08K 3/36 ,  G02B 1/04
Fターム (4件):
4J002CP081 ,  4J002DJ016 ,  4J002FD206 ,  4J002GP01
引用特許:
審査官引用 (7件)
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